中古 LFE APE-110 #293631690 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 293631690
ウェーハサイズ: 4"
Plasma cleaners, 4"
Intel 8052 microprocessor
Digital mass flow control
Pump 23cfm not included
Digital metering:
RF Power
Chamber pressure
Flow rate: 1/2 1500 SCCM
Frequency: 13.56 MHz
Process gas: 5 PSIG, 35 kPa
Compressed air: 65-85 PSIG, 450-858 kPa
Power supply: 115 VAC, 50/60 Hz, 15 A.
LFE APE-110は1100°Cの最高の処理温度のいろいろな基質をエッチング/asheするように設計されている動的エッチャー/asherです。ユーザーフレンドリーなインターフェイスを提供し、直径6インチまでのバルク材料またはウェーハと互換性があります。APE-110は11ゾーンのロードロックシステムを備えており、処理用の基板の迅速かつ効率的なロードとアンロードを可能にします。また、正確な温度制御のためのチャンバー温度監視システムも備えています。0.5µm分解能の高精度クォーツステージは、高解像度のエッチングとアッシングを提供します。達成可能なプロセス結果には、サブミクロンシリカエッチングおよび同等の酸化物エッチング、および高品質のシリコンエッチングおよびアッシングが含まれます。LFE APE-110独自の3D物理エッチング機能により、エッチングが困難な基板上に、トレンチやパターンなどの残留物のない3次元フィーチャーをエッチングできます。さらに、APE-110には誘電体とステンレス製のチャンバーがあり、エッチング/アッシング中に発生する不純物の汚染を最小限に抑えます。LFE APE-110は強力なプログラミングインターフェイスを搭載しており、ユーザーはプロセスパラメータを「ダイヤル」して複雑なレシピを作成し、繰り返し可能で一貫性のある結果を保証します。APE-110には統合されたRFソースもあり、より選択的なエッチング/アッシュ操作のための交互の電源を提供します。全体的に、LFE APE-110は、直感的なユーザーインターフェイスと強力なプロセス制御ツールと相まって、さまざまな基板の高品質のエッチングとアッシングを提供します。このエッチャー/アッシャーを使用すると、サブミクロン精度を達成し、高品質のエッチングおよびアッシング結果を迅速かつ正確に確実に生成できます。
まだレビューはありません