中古品 マスク＆ウェーハ検査 を販売中
マスクおよびウェハ検査は、集積回路（IC）の品質と信頼性を保証する半導体製造において重要なプロセスです。半導体ウェーハのパターンを定義するために使用されるマスクと、ICが構築されている基板であるウェーハ自体の検査を行います。マスク検査の目的は、パターン転送プロセスに影響を与える可能性のあるマスク表面の粒子、傷、剥離などの欠陥を検出することです。これらの欠陥は、製造プロセス中に歩留まりの損失やデバイスの故障を引き起こす可能性があります。検査システムは、光学や電子ビームイメージングなどの高度な技術を使用してマスクをスキャンし、高精度で高速な欠陥を特定します。マスク検査から得られたデータは、パターンの完全性を確保するためにマスクを修復または交換するために使用されます。一方、ウェーハ検査は、堆積、リソグラフィ、エッチング、埋め込みなど、IC製造のさまざまな工程で発生する欠陥を特定するために実施されます。ウェーハ表面またはレイヤー内の欠陥は、ICの機能と性能に影響を与える可能性があります。検査システムは、高度なイメージング技術を使用して、汚染、パターン偏差、または電気的異常などの欠陥のウェハを検査します。これにより、欠陥の検出と分類が可能となり、欠陥ウエハーの再作用や廃棄などの適切な措置を講じることができます。全体として、マスクおよびウェハ検査は、半導体デバイスの品質と信頼性を確保する上で重要な役割を果たします。検査技術の継続的な進歩は、ICの縮小と複雑化に対応するために不可欠であり、メーカーは絶え間なく進化するエレクトロニクス業界の要求に応えることができます。
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