中古品 スパッタリング装置 を販売中

スパッタリングシステム装置は、エレクトロニクス、光学、エネルギーなど、さまざまな産業における薄膜蒸着プロセスの重要なコンポーネントです。これらのシステムは、スパッタリングのプロセスを通じて、異なる材料の薄膜を基板表面に堆積させるように設計されています。スパッタリングプロセスは、通常プラズマによって生成される高エネルギーイオンで標的物質を爆撃することを含みます。この衝撃により、対象物質の原子や分子が表面から排出され、基板に向かって移動します。基板に到達すると、これらの放出された粒子は凝縮し、薄膜を形成する。スパッタリングシステム機器は、いくつかの主要コンポーネントで構成されています。主成分はスパッタリングチャンバーで、対象物質と基板を収容します。チャンバー内部には、空気分子の干渉を防ぐために真空環境が形成されます。ガスのイオン化によって生成されるプラズマは、イオン爆撃の原因となります。スパッタリングシステム機器の重要なコンポーネントは、ターゲット材料そのものです。ターゲットは通常、基板に薄膜として堆積する材料で作られています。ターゲット材料の選択は、その組成、構造、および厚さを含む最終薄膜の特性を決定します。スパッタリングシステム機器の他の重要なコンポーネントには、ガスのイオン化とプラズマの生成に必要なエネルギーを供給する電源、および沈着プロセス中の基板の位置を確保する基板ホルダーがあります。全体として、スパッタリングシステム機器は、その特性を正確に制御する高品質の薄膜の製造において重要な役割を果たします。これらのシステムは、先進的な電子デバイス、光学コーティング、および様々なアプリケーションのためのエネルギー効率の高いコーティングの開発と製造を可能にします。

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