中古 ASM A 412 Doped Poly #9359390 を販売中

ASM A 412ドープポリは、半導体デバイスの製造にプリドープエピタキシーを提供するように設計された拡散炉およびアクセサリーです。それは200から1500°Cに温度で調節可能である2つの6"の水晶管のオーブンと合います。また、独立した温度制御、シングルステージ温度ランプ、調整可能な反応圧力、ホウ素ドープ型ポリシリコンヒーター、機械および電子シャッターアセンブリ、および電源装置を備えています。A 412は、GFSI、 BPSG、ヒ素、リン、ホウ素、リン、アンチモンなどの揮発性ドーパントの急速な投与に至るアプリケーションのために設計された、その技術的機能で特に汎用性があります。より速い熱応答のためのガス源の冷却に；単方向のCVDおよび窒化物のフィルムの沈殿に。ホウ素のドープされたポリシリコンヒーターは最高の効率、均一な熱伝達および速い熱循環を保障します。一段階温度ランプシステムを使用することにより、反応圧力を調整して蒸発を高めたり制限したりすることができ、その結果、揮発性ドーパントエスケープの量を制限することができます。その機械的および電子シャッターアセンブリは、後圧の完全な閉鎖を可能にし、異物が上流反応室に入るのを防ぎます。さらに、A 412の電源ユニットは0〜100％の範囲の電力を供給し、0％はオフと見なされ、100％は「ハイパワー」と見なされます。この設計により、パワーをユニバーサル定数に簡単に調整でき、高温および特定の出力を必要とするアプリケーションに最適です。要するに、A 412ドープポリは、揮発性ドーパントの迅速なドーピングを容易にするように設計された豊富な機能を誇るエピタキシー拡散炉です。その調節可能な温度範囲、シングルステージ温度ランプ、調整可能な反応圧力、ホウ素ドープされたポリシリコンヒーター、電源装置、および機械および電子シャッターアセンブリは、半導体デバイスの製造におけるドーピング前の完璧なソリューションになります。