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OXFORD Plasmalab 133 #293712618

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Plasmalab 133

Reactive Ion Etcher (RIE) ADVANCED ENERGY HiLight 136 RF Generator Chamber: Etching chamber Loadloc
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OXFORD Plasmalab 133 #9404282

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OXFORD Plasmalab 133 #9151442

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OXFORD Plasmalab 133 #9090816

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Plasmalab 133

RIE (FL) Dry etchers FL: Configured for fluorine based chemistry Set up for SiO2 etch Platen: 330 mm
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OXFORD Plasmalab 133 #9090813

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Plasmalab 133

RIE (CL) Dry etchers CL: Configured for chlorine based corrosive chemistry Set up for GaN etch Plat
131
OXFORD Plasmalab 133 #293651582

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Plasmalab 133

Reactive Ion Etcher (RIE), 4".
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