中古 GCA ALS #293639853 を販売中
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ID: 293639853
I-Line wafer stepper
Illumination uniformity: <= 2.5%
Maximum stage travel: 200 mm
System resolution: 0.65 μm L/S
Depth of focus: >= 0.98 μm
Reduction: +/- 0.10 µm
Rotation: <= 0.05 µm
Telecentricity: +/- 0.5 ppm
Global registration: +/- 0.30 µm T.I.R
Local registration: +/- 0.15 µm T.I.R
Open frame: No repeaters
Orthogonality: +/- 1.0 ppm
Stage precision: +/- 0.15 µm
Wafer levelling repeatability: +/- 10 ppm
Reticle aligner accuracy: <= 0.1 µm
Aperture blade repeatability: +/- 0.25 mm
Aperture blade skew: +/- 0.25 mm
RMS Realiability: 30 Cycles
AWH Precision: +/- 3.0 mils
AWH Reliability: 50 wafers
Focus repeatability: <= 0.30 µm T.I.R
Reduction repeatability: <= 6.0 ppm T.I.R
Optic:
Lens specification: 2145-I Tropel
Focal length: 86
Resolution: 0.65 µm
Image field: 24.1 mm
Wavelength: 365 mm
E.P Diameter: 49 mm
E.P. Location: 473 mm
Reduction: 1:5
Depth of focus: n+/- 0.5 µm.
GCA ALSは、GCA Corporationが高度なリソグラフィ用途向けに設計したウェーハステッパーです。ステッパーは、コンピュータ制御のウェーハステージを備えており、X、 Y、 Z方向を0。1ミクロンの再現性で移動します。超高剛性ベースを備えており、最高精度のアライメントとリソグラフィ精度を可能にします。このステッパーは、ナノスケール構造とデバイスの製造のために、高速かつ正確なマイクロリソグラフィを可能にする、高度で効率的な機器です。高度なレンズシステムにより、0。6ミクロンの全場露光など幅広い機能を発揮します。ステッパーには、最高ライン速度30mm/secの低温/高精度紫外線露出ユニットも備えています。全面的な機械は光源、レンズ、シャッター、測定用具、画像処理の資産および露出制御を含んでいます。これらのすべてのコンポーネントは、最大露出安定性、解像度、生産性などのさまざまな目標を達成するために組み合わせることができます。ウェーハステッパーは、高度なプロセス制御とソフトウェア機能も備えています。露光時間、レーザーパワー、メッシュ制御などの露光パラメータを制御できる統合プロセス管理モデルが含まれています。メッシュ制御機能は、大きな表面積にわたって小さな処理エラーを検出して予測することにより、プロセス制御を改善します。これにより、リソグラフィープロセスの欠陥を軽減または排除することができます。ウェーハステッパーに加えて、ALSはアライメント、露出、開発のための組み込みプロセスアルゴリズムも備えています。これにより、重要なリソグラフィープロセスの再現性が最大限に向上します。また、データ処理およびストレージ用の検査およびストレージ・システムと統合することもできます。要するに、GCA ALSは費用対効果が高く、高精度で高いスループットのリソグラフィープロセスを可能にするように設計された高度なウェーハステッパーです。ナノ構造の加工に優れた柔軟性と精度を提供する強力な装置です。
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