中古 IPEC PLANAR 372M-44113-1 #9043888 を販売中

IPEC PLANAR 372M-44113-1は、薄型ウェーハの平面化と製造に特化した多段ウェーハ研削、ラッピング、研磨装置です。このシステムは、ダイヤモンドまたは酸化アルミニウムのどちらかの研磨粒子と、ウェーハ表面に研磨粒子を同時に移動させる特許取得済みの回転運動を使用し、接触圧力と研磨が進行する速度を操作します。IPEC PLANARユニットのツールは、直径6インチまでの薄型ウェーハの平面化、精密研削、研磨など、要求の厳しい用途に特化して設計されています。統合された研削、ラッピング、および研磨ヘッドは、高品質の処理性能と低廃棄物および汚染を求めるユーザーにとってwin-winソリューションを可能にします。372M-44113-1機械は力、圧力および温度が均質な平面化および優秀な精密粉砕および磨く両方に終ってウェーハを渡って一定に保つことができることを保障します。ハイエンドの処理結果を確実にするために、工具部品は異なる直径のウエハを加工するために調整可能です。エンベデッドマシンには、薄い層のためのデュアルステージ研磨、6インチプレッシャープレート、研磨剤の制御放出用ホッパーが含まれています。IPEC PLANAR 372M-44113-1アセットは、ウェーハモニタパラメータ間で制御可能であり、処理結果の均一な品質と再現性を確保します。内蔵のコンピュータは、温度の変動や圧力の変化を防ぎながらも、± 0.5µmに一貫した結果をもたらします。ユーザーフレンドリーなインターフェイスにより、操作が容易になり、セットアップと操作の複雑さが軽減されます。372M-44113-1は、ガラス、石英、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムなどの誘電材料を使用するのに理想的です。半導体やオプトエレクトロニクス用途において精密な表面処理が可能であり、マイクロオプティクス、レーザー部品、その他の精密部品にも対応しています。超高真空（UHV）アプリケーションで使用するために設計されており、部品品質を向上させるためにきれいでほこりのない環境を提供します。IPEC PLANAR 372M-44113-1は、プロセスパラメータを監視するための調整可能な機能と組み込みコンピュータを備えており、ウェーハの完全な平面化、精密研削、研磨を実現し、信頼性の高い再現性の高い結果をもたらすのに役立つため、半導体産業の不可欠な部分です。