中古 KLA / TENCOR Archer XT+ #9227344 を販売中

KLA/TENCOR Archer XT+は、高度な半導体リソグラフィおよび金型製造プロセス用に設計されたマスクおよびウェハ検査装置です。電子顕微鏡（SEM）、電子ビームリソグラフィ（EBL）、走査型電子顕微鏡（SEM）、電子ビームダイレクトライト（EDW）データからの生の画像の自動解析を提供します。ウエハー、マスク、電子ビームからの粒子残基を高速かつ高分解能で検査し、ナノメートルまでの個々の欠陥を検出することができます。KLA Archer XT+は独自のアルゴリズムを使用して、数百万画素の分析を迅速に行い、正確なマスクとウェーハ欠陥の検出と分類を行います。このユニットは、Opens、 Shorts、および繰り返し欠陥などの総欠陥を含む多種多様な欠陥を検出することができます。エッジまたはパターン配置精度（オイラー）の欠陥。layer-to-layer misregistration；穀物のオリエンテーションの検出；適用範囲に抵抗して下さい；穀物の構造；そして表面の粗さ。また、欠陥タイプに応じて<1µmから1nmまでの精度を測定および報告する厳密なメカニズムも組み込まれています。TENCOR Archer XT+は、完全に自動化された検査および計測スイートで構築されています。これには、効率的なイメージング、フィルタリング、セグメンテーションツールセットが含まれ、不具合を検出、分類、検証するための巧妙な分析機能と統合されています。比較アルゴリズムのライブラリが含まれているため、履歴データを迅速に分析できます。さらに、このマシンは高度な予測解析を使用して、潜在的なプロセスおよびプロセス・ツーリングの問題をユーザーに認識して警告します。自動化された検査と分析に加えて、Archer XT+は幅広い可視化ツールへのアクセスを提供します。複合欠陥解析用のマルチイメージアライメント、複合欠陥解析用の多変量解析、および仕様の特徴を検出および比較する機能が含まれます。提供されるウェーハおよびマスクストリップ解析機能により、インスタント、マルチイメージナビゲーション、高度な画像解析ルーチンが可能になります。KLA/TENCOR Archer XT+は、マスク、ウェーハ、金型製造に最適な計測ソリューションです。高度な結果精度、強力なアルゴリズム、自動欠陥検出と分類、可視化機能により、プロセスの最適化と高度な欠陥管理に最適なツールです。