中古 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE OP 2600 #9214770 を販売中

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE OP 2600は、半導体デバイスの重要な測定を可能にするウェーハ試験および計測機器です。この高精度システムは、次世代チップや集積回路の研究開発に使用されています。自動走査型光顕微鏡（ASOM）や白色光干渉計（WLI）など、ウェーハの測定に2つの光学系を使用しています。ASOMは、半導体デバイスの表面の2D輪郭画像と3Dトポグラフィマップの両方を生成することができます。最大1nmの高解像度で、縦高さ10nmの特徴を見分けることができ、高精度・高精度を実現します。WLIは、反射光の干渉に依存して表面の3Dマップを作成するイメージング技術です。また、光学顕微鏡では見ることのできない微細な特徴や表面粗さの立体形状を明らかにすることができます。WLIの解像度は40nmで、0。2nm〜2。0nmの粗さを測定するために使用できます。KLA OP 2600はProgRScanプログラムを搭載しており、ウェーハやデバイスの研究用に特別に設計されたソフトウェアパッケージです。ASOMとWLIの両方を制御および同期でき、機能認識、パラメータ測定、データ分析などのいくつかの機能を統合します。また、回帰解析、ヒストグラム解析、主成分解析など、さまざまな解析方法も可能です。このソフトウェアは、ユーザーフレンドリーであるように設計されており、結果が製造ライン内の他のプロセスのために簡単にエクスポートすることができます。TENCOR OP 2600ユニットは完全に自動化されているため、テストのスループットを大幅に向上させ、ユーザーの労力を最小限に抑えて再現可能な結果を提供します。このマシンを使用して自動化されたプロセスは、手動プロセスに関連するエラーを低減するのにも役立ちます。さらに、デバイス開発や生産テストなどの作業の納期とコストを大幅に削減することができます。全体として、THERMA-WAVE OP 2600ウェハテストおよび計測ツールは、デバイスおよび半導体の研究開発のための高精度な測定を提供します。最先端のチップや集積回路の開発に必要な精度とディテールを提供し、非常に高い解像度でウェーハを確実に測定できます。さらに、自動化されたプロセスは、エラーの削減、納期の短縮、収益性の向上に役立ちます。