中古 ULTRATECH Sapphire 100 #293645287 を販売中

ULTRATECHサファイア100は、さまざまな基板上に精密なパターンを生成することができる高精度、高スループットのリソグラフィ装置です。このステッパーは、先進的な研究開発アプリケーション向けに設計されており、製造メーカーは薄膜およびフォトニック構造を基板に正確かつ効率的に転送することができます。サファイア100は、ユーザーが忠実度と信頼性の高いパターンや構造を正確に再現することができる技術的な利点の配列を備えています。システムの統合パターンジェネレータは、プロセス全体にわたってユーザーの介入を必要とせずに、最も正確な構造を自動的かつ便利に生成します。さらに、このユニットは最大1。5 μ mの高精度分解能を生成します。ULTRATECH Sapphire 100は、0。25 μ m以下のライン幅を実現できるスキャンデイのフィールドサイズも強化されており、最大5インチのウェーハを扱うことができます。このステッパーには、さまざまなサードパーティ製のソフトウェアとシステムを備えた統合されたインターフェイスがあり、データセットを簡単に統合できるため、ユーザーは正確なパターンやデザインをすばやく作成できます。サファイア100は、自動スキャンデイ効率と自動フォーカス監視機能を備えており、最適な精度と再現性を確保するために協力しています。また、中解像度マスクやファインラインデザインなど、マイクロストラクチャーの最高忠実度を実現するための様々な露光オプションを備えています。また、高度な温度制御、ダスト低減機能、低振動レベルを備えており、アセットの全体的な精度と性能に貢献します。ULTRATECHサファイア100には、自動負荷/イジェクト機能、レーザー光源、アラームモデル、およびさまざまなネットワーキングおよびデータ管理オプションなど、さまざまなハードウェアおよびソフトウェアアクセサリが付属しています。コンパクトで人間工学に基づいた設計で、この機器はユーザーフレンドリーでインストールとメンテナンスが簡単です。このシステムは、幅広い製造業務に統合することも可能です。結論として、サファイア100は高度な研究開発用途向けに設計された高精度、高スループットのリソグラフィーユニットです。パターンジェネレータ、高精度分解能、スキャンデイフィールドサイズの強化、露光オプション、温度制御、ダスト低減機能、低振動レベルなど、さまざまな技術的メリットを備えています。ユーザーフレンドリーで、さまざまな製造業務に簡単に統合できます。