中古 ULTRATECH Multipol #293607366 を販売中

ULTRATECH Multipolは、半導体デバイス製造業界で使用されるウェハステッパーです。半導体チップ上の微細構造をパターン化するために設計された高精度で高収率のツールです。1ミクロンから32ミクロンまでのサイズのデバイスを生成します。Multipolは、X-Y電動スキャンステージからなるスキャンランプを使用して、ウェーハ表面に顕微鏡構造を形成します。スキャンランプには、それぞれ0〜90度の発生角度（AOI）を持つ直径5〜50 mmの範囲のさまざまな対物レンズが取り付けられています。ULTRATECHマルチポールは、最大12インチのウェーハ基板上にパターンを生成できる可変サイズのステージを使用しています。4Xから50Xまでの画像を投影することができ、ステップアンドリピート、スキャン、または両方の組み合わせのいずれかをパターン化する柔軟性を提供します。これは、最大露光時間が10ミリ秒の1nmよりも優れた解像度を持っています。このステッパーは、最適なパターニング性能を提供する高強度、軽量の照明を特徴としています。また、Multipolは高度な制御アルゴリズムを使用しており、正確なステッパー制御と最適化を可能にします。また、プログラム可能なユーザーインターフェイスを備えており、ユーザーはパターニング能力をカスタマイズすることができます。ユーザーインターフェイスは、各アプリケーションの特定の要件に合わせて調整することができ、デバイスが最大限の精度で意図された機能を実行できるようにします。さらに、ULTRATECH Multipolには、動作中にウェーハやデバイスが損傷しないようにするための多くの安全機能が含まれています。これには、反射防止シャッター、ビームアライナー、およびメンテナンス中に粒子が損傷しないようにする真空チャックが含まれます。ステッパーにはオートフォーカスシステムと視力補正システムが装備されており、レンズはパターニングプロセス中に最高レベルの精度を維持するためにウェーハの表面に調整することができます。全体的に、Multipolは精密な正確さの小さいウェーハおよび大きいウェーハをパターン化する機能の高度のウェーハのステッパーです。ステップアンドリピートモードとスキャンモードの両方で動作する機能を提供し、ユーザーインターフェイスをカスタマイズしてお客様の特定の要件を満たすことができます。また、デバイスの損傷を防ぐための多くの安全機能を提供しています。これらの要素はすべて、半導体デバイス製造業界での成功を支えています。