中古 ULTRATECH AP 300 #9236556 を販売中

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ID: 9236556
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Stepper, 12" Operating system: Windows Intensity: 2500 (mw/cm²) Wave length: D, H, I Line DOF: 5 um Resolution: 200 nm Field size: 44 x 26 mm Lamp uniformity: 3.07% Type: SMIF Automation line component: GEM Reticle size, 6" Wafer of type Illumination: Standard Main shutter: Standard Booth unit Reticle changer Reticle cassette No reticle cassette bar-code Reticle bar-code reader TAG Reader No pellice particle check Intensity meter holder / Display High precision N rotation PA parts CDA Filter: Organ In-organ Signal tower No double cassette elevator No HeNe unit modification unit Remote E-console: Single Recipe server Stage: Scan speed: 250 mm/sec Chuck: Ring chuck Electric power: 208 V / 60 Hz 2008 vintage.
ULTRATECH AP 300は、半導体製造のプロセスを自動化するために利用可能な最高の性能と精度を提供するウェーハステッパーです。洗練されたウェーハハンドリング、高精度な計測、高度な光学を備えた多軸オートメーション装置です。ULTRATECH AP300は、高度な精密技術「Advanced Precision」または「AP」からその名を取っています。AP 300は、1000ナノメートルを超える精度の高精度な多軸位置決めシステムを採用しており、必要に応じてデバイスを正確に異なる処理が可能です。その印象的な精度で、それは効果的に所望の最終製品を達成するために、所定のデバイス間でエッジのテクスチャをプロファイルすることができます。AP300は、可視スペクトルと同じくらい短く、最大10ミクロンとピーク波長の解像度を達成できる高度な光学系も備えています。先進的な光学系により、ULTRATECH AP 300はこれまでにない精度で欠陥を測定することができます。回折格子の臨界径と深度測定から傾斜ターゲットの高精度まで、ULTRATECH AP300はデバイス表面の優れた検査を可能にします。さらに、AP 300は洗練されたウエハハンドリングユニットを備えており、迅速な処理が可能です。AP300のウェハハンドリングマシンは、デバイスの複雑さと入出力条件に焦点を当て、あらゆるサイズのウェハーのスループットを最適化します。全体的に、ULTRATECH AP 300は、半導体製造のプロセスを自動化するために利用可能な最高の性能と精度を提供する洗練された多軸ウェーハステッパーです。10ミクロンの解像度を持つ高度な光学系と、1000ナノメートル以上の精度を持つ高精度の多軸位置決めツールを備えています。ULTRATECH AP300はまた、効率的なスループットを可能にする洗練されたウェーハハンドリングアセットを提供します。高信頼性とコスト効率に優れたAP 300は、品質向上、スループット最適化、および半導体デバイス製造のための強力なオートメーションソリューションを提供します。
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