中古 ULTRATECH AP 300 #293595884 を販売中

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ウェーハステッパー
製造業者
ULTRATECH
モデル
AP 300
ID: 293595884
ヴィンテージ: 2006
Stepper, 12" Standard features target: 2 µm Standard field: 44 mm x 26.7 mm Test reticle: 6 x 6 Wafer thickness handling: 0.4 mm - 2 mm Universal size / Wafer kit: 8" and 12" FOSB Cassette to cassette wafer handling PATMAX MVS Alignment system MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm Dual lamp illuminator, 1200 W GHI-Line broadband lens GHI-Line auto filter changer FOUP Wafer handler Extended field 6-Slots reticle stack manual front loading GEM HSMS Communications Environmental chamber Enhanced bottom pellicle protection Closed loop cooling Prism purge kit Dual flip aperture size: 44 mm (Largest) Power source: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wires 2006 vintage.
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ULTRATECH AP 300は、高度なリソグラフィ用途向けに設計された完全自動ウェーハステッパーです。最大300mmまでの基板サイズに対応できる3軸ウェーハステッパーで、5：1の縮小率を実現しています。最大スキャン速度は最大10000mm/秒に達することができ、最大80000mm/s²の加速も可能です。ULTRATECH AP300は、Knoll-HartとGalvoの2つの画像投影モードをサポートしています。Knoll Hartモードは、複数のレーザービームスポットを同時に投影し、露光時間を短縮します。最高の決断は0.3µmまで達することができます。一方、Galvoモードは、均一な強度プロファイルを提供する利点があり、最大解像度は0.7µmです。また、2Dパターンの高速スキャンも可能です。AP 300は、動作中の損傷から保護するために、複数の安全機能を備えて設計されています。最初の安全機能は再校正メカニズムであり、露出するたびにシステムを自動的に再校正することができます。これにより、元の解像度が復元され、常に正確さが保証されます。第2の特徴は高められた自己保護メカニズムです；これは、リソグラフィ中に発生するエラーを検出し、すぐにプロセスを停止することができます。AP300はまた手間のかからない操作を可能にする産業等級のタッチスクリーンを特色にします。これは、ユーザーが簡単にシステムを表示し、制御することができ、完全なグラフィカルユーザーインターフェイスを提供します。さらに、洗練されたOMRインターフェースを備えており、ユーザーはプロセス全体を開始から終了まで監視することができます。さらに、ULTRATECH AP 300は、さまざまな照明条件で最適な性能を確保するためのカスタマイズ可能な環境を提供します。これは標準照明から暗室の条件にまで及ぶことができ、ユーザーは各アプリケーションの環境をカスタマイズすることができます。ULTRATECH AP300は、高度なリソグラフィ用途に優れた精度と信頼性を提供するように設計されています。その高速スキャンと精密レーザー投影は、同様に研究や業界のアプリケーションのための理想的なオプションになります。ユニットの高度な安全性と直感的なインターフェイスは、任意のユーザーのためのシンプルで正確な操作を保証します。
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