中古 ULTRATECH 1500 MVS #9293528 を販売中
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ID: 9293528
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2000
Stepper, 6"
Stage type:
SERVO Driven X and Y
Stepper motor driven in theta
Multi-axis air bearings
Laser metered
Laser resolution: 40 nm
Vibration control: Isolated granite table
Computer:
HP 362 Controller
Graphics monitor
Enclosed impact printer
Wafer handling:
Cassette to cassette autoloader
Manual loader / Robotic loader
Imaging and lens (1.0 µm):
Resolution: 1.0 µm
CD Control: 0.9 ≤ CD ≤ 1.1 µm
DOF: > 3.0 µm
Lens distortion: ≤ 160 nm, 100%
Lens matching (A-B): ≤ 180 nm, 100%
Maximum image area: 34.2 x 13.6 mm
Longest rectangle: 39.0 x 11.4 mm
Largest square: 18.0 x 18.0 mm
Exposure spectrum: 390-450 nm
Imaging and lens (0.8 µm):
Resolution: 0.8 µm
CD Control: 0.72 ≤ CD ≤ 0.88 µm
DOF: > 2.0 µm
Lens distortion: ≤ 110 nm, 100%
Lens matching (A-B): ≤ 130 nm, 100%
Maximum image area: 31.80 x 11.5 mm
Longest rectangle: 34.0 x 10.0 mm
Largest square: 15.5 x 15.5 mm
Exposure spectrum: 390-450 nm
Exposure (1.0 µm and 0.8 µm):
Uniformity: 3.0%, 2.5%
Wafer plan irradience: ≥1000 wM/cm²
2000 vintage.
ULTRATECH 1500 MVS(マイクロ大気真空ステッパー)は、フォトレジスト用途向けに設計された高性能ウエハステッパーです。この先進的な装置は、高解像度フォトレジストの正確なアライメントと配置を提供するように設計されており、高度なイメージングとアライメント機能を備えています。深紫外線やEUV抵抗などの高度なリソグラフィ用途に適しています。1500 MVSの動作環境は、一連の密閉されたチャンバーによって外部の大気から隔離されます。チャンバー内の温度、圧力、湿度は最適なリソグラフィ条件にプリセットされます。この真空環境は、最高レベルの露出精度を確保し、スコーチマークやストリークなどの不要な欠陥を低減します。ULTRATECH 1500 MVSは、自動フォーカシング、登録、アライメント制御を提供するアドバンサガイドシステム(AGS)を備えています。このユニットは、0。7ミクロンのウェーハアライメントエラーと正確なフォーカス深度制御をサポートします。また、最高の画質とリソグラフィ結果を保証するために、内蔵のライトカーブ検出ガウス測定機も含まれています。1500 MVSはProdigy Controllers ToolとTrueMVS Advanced Acquisitionソフトウェアを備えています。このソフトウェアは、イメージングと光学データを資産に迅速かつ柔軟に統合するために設計されています。最大4つのレイヤー、さまざまなイメージング方法、ほぼすべてのステップと繰り返し手順をサポートします。また、さまざまなスキャンおよび露出プロセスの結果をレビューおよび比較する機能もサポートしており、露出効果の概要をすばやく確認できます。ULTRATECH 1500 MVSは、8インチまでのウエハサイズに対応するように設計されています。このステッパーは最大40mm/sのスキャン速度を持ち、生産および研究アプリケーションの両方で高い生産性を確保します。また、最適なイメージングのために露出パラメータを自動調整する自動ビームサイズ認識機能も搭載されています。1500 MVSは、ラインのトップ、高度なウェーハステッパーは、リソグラフィープロセスのための最高の解像度の画像を提供するように設計されています。高度なステッパー機能、高度な制御および画像処理機能、および非常に正確なアライメントと安定性を備えています。それは正確で、一貫した露出の結果を必要とする生産および研究設備のための完全な選択です。
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