中古 ULTRATECH 1500 MVS #9229103 を販売中

ULTRATECH 1500 MVS （MaskApply II Stepper Equipment）は、半導体製造に使用されるフォトマスクのダイレクトイメージングに使用される特殊ウェハステッパーです。このシステムは、集積回路を生成するリソグラフィープロセスで使用するフォトマスクパターンを迅速かつ正確に作成するように設計されています。1500 MVSは、最大2ミクロンの解像度でサイコロで3を生成することができます。これは、堅牢なアライメントとプロセスの自動化のためにSynBit独自の技術を利用しています。高精度のウエハハンドリングマシン、帯電防止ツール、精密ビームチルト調整アセット、ステライメージプロジェクターを備えています。MaskApply IIステッピングモデルは、半導体プロセスエンジニアのニーズを満たすように設計されています。これは、複雑なイメージングプロセスを容易にするために一緒に動作するハードウェアとソフトウェアコンポーネントのスイートを備えています。この装置は高性能と一貫性を提供し、1時間あたり2100ウェーハまでのスループットを実現します。MaskApply IIステッピングシステムは、精度と速度を向上させるためのいくつかの高度な機能を提供します。ULTRATECH 1500 MVSは、傾斜およびフォーカスシステムに加えて、光学顕微鏡と高度な真空コントローラを内蔵しています。この光学顕微鏡を内蔵することで、パターンをウェハに印刷する前にマスクパターンを正確に検査することができます。そして、高度な真空コントローラーは、均一な照明と画像の焦点を維持しながら、マスクのストレスを最小限に抑えるのに役立ちます。これらの機能に加えて、1500 MVSは、ユーザーがプロセスレシピを作成、分析、および最適化することができる統合ソフトウェアパッケージを提供しています。その他の機能として、正確なマスク位置決めのためのアライメント追跡ユニット、プロセスレシピの比較を容易にするためのプリロードされたデータベース、および統合されたパーティクルモニタリングマシンがあります。全体として、ULTRATECH 1500 MVSは、さまざまな半導体プロセス環境での動作に適した強力で信頼性の高いウェハステッパーです。このツールは、フォトマスクの直接イメージング、および集積回路を生成するリソグラフィープロセスに最適な堅牢な機能と機能を提供します。