中古 ULTRATECH 1100 #9105780 を販売中

ULTRATECH 1100は、高性能集積回路（IC）ウェハの製造用に設計されたリソグラフィ装置です。チップメーカーが高性能集積回路デバイスを作成できる機能を備えています。この装置は、他のステッパーよりもゲートサイズが小さくライン幅が細かい高密度ダイを製造することができます。1100は0。12マイクロメートルまでの分解能でフォトリソグラフィが可能です。露光源にはUVレーザーを搭載し、高性能以上に使用できます。革新的なステップとリピート機能を備えており、従来のシステムよりも最大3倍のフィールドサイズを提供します。このモデルはまた、高精度の露光設定を可能にする新しいレーザーリーダーバックシステムを備えています。ULTRATECH 1100は、1マイクロメートル以上の位置決め精度も備えており、一般的な光学系の50〜100倍の精度を誇ります。これにより、チップメーカーは非常に高い精度と再現性を持つデバイスを作成することができます。このユニットはまた、安定性の高いプラットフォームに搭載されており、ドリフトを最小限に抑えながら時間をかけて優れた性能を発揮します。機械は適用範囲が広く、フロントサイドか裏側の照明モードで使用することができます。接触、非接触、バイナリタイプを含む幅広いフォトマスクをサポートするように設計されています。1100は高度なシャッターツールを使用し、フルフィールドアライメント機能も備えています。これにより、ダイプレースメントはウェーハ表面全体にわたって一貫しており、正確であることが保証されます。さらに、パージ資産は、空中汚染物質による欠陥を最小限に抑えるように設計されており、フィーチャーマスキングモデルは、1つの露出シーケンスで複数の層を自動的に作成することができます。全体的に、ULTRATECH 1100は、高精度で信頼性が高く、効率的に設計されています。この装置により、チップメーカーはより高精度な公差のICを作成することができます。また、より小さなゲートサイズとより細かいライン幅のデバイスを製造することができます。これにより、1100は、高性能デバイスを作成しようとしている今日のチップメーカーにとって魅力的なオプションとなります。