中古 ULTRATECH 1100 #9085382 を販売中

ULTRATECH 1100は、高度なリソグラフィ用に設計された最先端のウェーハステッパーです。ウェーハステッパーは、130ナノメートルまでのパターン転送が可能で、前世代のウェーハステッパーから大幅にスループット時間を短縮します。1100には、あらゆるファブプロセスに必須の機能が満載されています。ULTRATECH 1100の中心には、レーザー光学を使用して2Dマスクを正確にパターン化する高度なリソグラフィ装置があります。これらのマスクはクロム、金、または他の反射材料で構成されており、レーザーによってより簡単に適用され、マスク上の画像のより正確な表現が得られます。さらに、1100は革新的な拡散シールドシステムを使用して、露出中のあらゆる種類の干渉からマスクを保護します。DSSはまた、均一なラインピッチとエッジの強度を確保することで、画像の品質を維持するのに役立ちます。ULTRATECH 1100はまた、基板上に投影されるようにマスク上のパターンの正確かつ効率的な追跡を可能にするスキャン制御技術を利用しています。このSCT技術は、露出ごとに時間を短縮することにより、速度を向上させ、大幅な時間節約をもたらします。品質と精度を維持するために、1100はレーザー光学系の正確なアライメントを保証する3点アライメントユニットで設計されています。ULTRATECH 1100ならではのレンズ、マスク、基板の歪みを調節し、精密な画像処理を実現します。1100はまた十分にカスタマイズ可能で、レーザーの中心の頻度および光学の調節がいろいろプロセスの必要性を満たすことを可能にします。ULTRATECH 1100は、最大直径8インチのウェーハ加工が可能で、より大きで複雑なパターンを作成することができます。さらに、1100には高度なエラー訂正アルゴリズムと15ナノメートルの自動焦点化機能が含まれており、最先端のデバイスに最適です。最後に、ユーザーフレンドリーな操作、通信プロトコル、フォールトトレラントツールにより、ULTRATECH 1100は信頼性と使いやすいウェーハステッパーとなります。豊富な機能と汎用性を備えた1100は、リソグラフィのニーズに最適です。