中古 NIKON NSR SF130 #293603896 を販売中
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ID: 293603896
i-Line stepper
EFEM
Projection lens
Illumination unit
Interferometer laser (Wafer stage)
Interferometer laser (Reticle stage)
Control rack
Temperature unit
Operation unit
Pneumatic control box
RL-LIB10MP Board
6-Axis vibration measurement unit
Wafer holder
Chemical filter
Wafer reticle
Lamp house cool unit
Power supply box
Illumination power uniformity:
Power: 619.474 mw / cm²
Uniformity: 2.229%
Stepping accuracy step:
X: 10
Y: 13
Stepping accuracy back:
X: 9
Y: 11
Inclination:
TFD: 0.068
AS: 0.029.
NIKON NSR SF130は、高解像度レンズと調節可能な照明レベルを備えた深紫外線（DUV）ウェハステッパーで、高度なリソグラフィープロセスやアプリケーションに最適です。この装置は、13nmまでの高解像度を実現することができます。このレベルの解像度は、多くの場合、半導体業界の高度なプロセッサノードリソグラフィやその他の高度なアプリケーションに必要です。NIKON NSR-SF130ステッパーは、パフォーマンスを向上させるために設計された多くの機能を備えています。NIKON Enhanced OSAを搭載し、ウェーハ表面の特徴を自動検出し、露出設定を最適化します。また、露出時にウェーハの動作中に発生する位置誤差を補正するアーク型のウィンドウも備えています。さらに、NSR SF 130には4ポートの光学スキャンモジュールがあり、マルチビームスキャン機能を容易にします。解像度の面では、NSR-SF130は高度な2相4段レンズユニットを介して13 nmの画像を生成することができます。また、最大300 x 400 mmの領域で露出フィールドを生成し、1時間あたり最大480ウェーハの速度で発生することもできます。その結果、このマシンには、さまざまな難易度の高いリソグラフィ用途に合わせてさまざまなオプションが用意されています。NSR SF130は、露光波長、照明レベル、露光フィールド、およびプログラム可能なウェーハ転送システムが豊富に選択されており、非常に構成可能です。高解像度のCCDイメージングツールを使用して、露出フィードバックを素早く提供し、リアルタイムで必要な調整を行うことができます。最後に、NIKON NSR SF 130モデルは、シンプルなグラフィックスと使いやすい操作で、非常にユーザーフレンドリーに設計されています。直感的なインターフェイスは、データの入力、露出設定の調整、露出結果のレビューに使用できます。また、露出監視、欠陥レビュー、プロセスマッピングなどの高度なソフトウェア機能も搭載しています。これらの機能はすべて、リソグラフィープロセスを合理化し、オペレータが効率と精度を維持しやすくするように設計されています。
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