中古 NIKON NSR SF120 #293817934 を販売中

NIKON NSR SF120 Wafer Stepperは、最高速度で高精度なパターニングを実現し、生産性を最大限に高めるために設計された完全自動化された機械です。6インチまたは8インチのウエハサイズ、最大フィールドサイズ400mm x 400mm、高解像度0。059 μ mのダブルパターニングオーバーレイを搭載しています。反応イオンエッチング、イオン注入、ドライエッチングなど、さまざまなパターニング技術や用途に適しています。NIKON NSR-SF120は、効率と精度を最大限に高める独自のデザイン機能を活用しています。汎用性と速度に重点を置いたNSR SF 120は、現代の自己整列マルチパターニング（SAMP）プロセスの複雑さに合わせて高い精度を提供する多段オートフォーカス機能を提供します。また、フォーカス時間を短縮し、従来の技術では実現できなかった幅広い再現性を実現することで、スループットを向上させます。NSR-SF120はまた、高加速と減速を備えたパルススキャナを備えています。この機能は、高速イメージスキャンを可能にすることにより、スループットを向上させ、達成可能な解像度を削減するのに役立ちます。最大6。5nmのスキャン断面を備えたNIKON NSR SF 120は、最先端のファウンドリープロセスのニーズにも対応できます。NSR SF120のユニークな照明光学系は、均一でないトポロジを持つウェーハの処理に最適です。Variable Edge Stray Light Illumination System （VESLI；可変エッジ・ストレイ・ライト・イルミネーション・システム）は、変化の激しいウェハトポロジーに対応しながら、光感度とコントラストを向上させ、最適な光分布を実現します。これにより、パターニング精度の品質向上にもつながり、高い生産性を実現します。NIKON NSR SF120のプロセス効率を最大限に高めるために、複数の光路オプションを使用して、2つ以上のウェーハを同時に高速で撮影できます。これにより、ウェーハ交換や画像検証作業に要する時間が短縮され、プロセスのスループットが向上します。NIKON NSR-SF120は非常に洗練された使いやすいマシンで、最も要求の厳しいプロセスに必要な機能と性能を備えています。イオン注入やマスクレベルのリソグラフィなど、あらゆる高度なパターニングアプリケーションに最適な結果を提供できる信頼性の高い強力なツールです。