中古 NIKON NSR S609B #9188831 を販売中
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ID: 9188831
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Wafer stepper, 12"
CYMER XLA 240 Laser
Resolution: ≦ 55 nm
NA: 1.07
Exposed light source: ArF Excimer laser
Wavelength: 193 nm
Reduction ratio: 1:4
Maximum exposing range: 26 x 33 mm
Overlap accuracy: ≦ 7 nm
Throughput: ≧ 130 wafers/hour (76-Shots)
Exposure power conversion: 4800,952 (mW/cm²)
Illumination uniformity conversion: 0.205% (Dynamic)
Wafer holder flatness, Hip flatness: 2.018 μm
Reduction magnification: 1:4
Measurement of moving mirror measuring:
Residual WX: 1.201 nm
Residual WY: 1.271 nm
Exposure of light moving stage mirror measuring:
Residual WX: 1.028 nm
Residual WY: 0.533 nm
Lens distortion:
Max X: 6.2 nm Y: 3.9 nm
Max X: -6.3 nm Y: -2.4 nm
Stepping precision (Step):
SX1: 3σ = 5.8 nm
SX2: 3σ = 6.9 nm
SX3: 3σ = 6.6 nm
SY1: 3σ = 4.0 nm
SY2: 3σ = 4.2 nm
SY3: 3σ = 4.2 nm
2006 vintage.
NIKON NSR S609Bは、ステッピングレンズ、光学顕微鏡、ダークフィールドレンズなどの様々なレチクルを使用し、優れた品質の最先端の半導体ウェーハを製造することができる高精度ウェーハステッパーです。大規模集積回路（LSI）、 DRAMなどの先進メモリ製品の製造用に設計された汎用性の高いリソグラフィーツールです。NSR S609Bは、ステッパー操作の速度と精度を向上させることができるスキャンアライナウェハステッパーです。この装置には、ハイエンドスキャナ、レーザーベースのアライメントシステム、およびユーザーが単一の端末から機械の操作を制御および監視できる通信ユニットが装備されています。高度な電子ビームオプティクスと高解像度ステッピングレンズにより、ウェーハ上に作成されたパターンの精度を最大限に高めます。NIKON NSR S609Bの特徴は、マスキングプロセスにおける不整合を補正できる高度なAutoVisionTMソフトウェアであり、露光角度、入射光の角度、ウエハサイズの広い範囲でバッチ補正を適用することができます。このツールは、ステッパー操作中にウェーハ表面の整合性を検査するために使用できる組み込みのウェーハモニタリングアセットを備えています。NSR S609Bは、リモートサービスサポート、最大0。2umのフォールトトレランス、露光時間の短縮を可能にする高速スキャンなど、幅広いユーザーフレンドリーな機能と技術を誇り、同時に最大5つのウェーハを処理することができます。ステッパーには、パターン配置と配置精度の不規則性を検出および分析できる自動補正モデル、画像歪みを最小限に抑える強力なプログラムベースのアライメント、ステッパーが最適な全体的なパフォーマンスで動作することを保証するためのパターン解析装置が付属しています。ユーザーの生産性を最大限に高めるために、200ウェーハアンローダーと200ウェーハローダーを装備し、ウェーハアセンブリの手動処理にかかる不要な時間とエネルギーを削減するように設計されています。このシステムはまた、ほこりや汚れがチャンバーに入るのを防ぐ保護対策の数が付属しています、効果的にそのコンポーネントの寿命を延ばし、メンテナンスコストを削減するのに役立ちます。NIKON NSR S609Bは、高度なメモリ製品、LSI、およびDRAMの製造に強く推奨される信頼性の高い強力なウェーハステッパーです。高精度、高度な機能、使いやすいコントロールを備えたNSR S609Bは、多用途で正確なウェーハステッパーをお探しのお客様には確かに素晴らしい選択肢です。
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