中古 NIKON NSR S204B #9243873 を販売中

NIKON NSR S204Bは、集積回路の製造に使用される半導体製造ツールです。25nmライン/空間分解能でマスクパターンを生成できる独自の水素ハロゲン化オレフィン投影コヒーレントイメージング（HHEOPCI）技術を採用した、最先端のウェハステッパーです。HHEOPCIは、高密度および高度なパッケージングアプリケーションに必要なリソグラフィープロセス用に特別に設計されています。NIKON NSR-S204Bは、1ピクセルレベルで高解像度の画像処理および処理能力を提供する高度な計算アライメントおよび検査システムを備えています。機械は光学機器からステージモーションまで、リソグラフィープロセスのすべてのコンポーネントを調整して制御し、優れた性能を備えた高度に統合されたプロセスを作成します。フォーカスの深さが大きく、光学歪みが少なく、複数の収差補正機構を備えているため、高解像度の画像を再現することができます。NSR S 204 Bには大きな照明領域があり、効率的なウェーハの読み込みとアンロード速度を可能にし、スループットを向上させます。また、ステッパー内の高精度を維持する電動可動対物レンズを備えています。これは、生成されたパターンの正確なフィーチャーサイズを維持するのに役立ちます。また、低ノイズで安定性の高いステージシステムを搭載し、スムーズで正確なウェーハ位置決めを実現し、より高いスループットとデータ精度を実現します。NSR-S 204 Bは、デュアルトラック統合アライメント（DTA）機能を含むさまざまな機能を提供し、2つのパターン形成構造（ソースマスクなど）とパターンマッチング機能の同時アライメントを可能にし、繰り返し動作中に正確なアライメントを可能にします。ユニットの熱安定性が向上し、イメージングプロセスの精度と再現性が向上します。ニコンNSR -S 204 Bは、高解像度、高強度、高収率32nmチップを生成するための信頼性と高度なリソグラフィーステッパーです。高精度で安定したイメージングを提供し、確実に形成されパッケージ化された半導体製品を製造します。先進的なモーションコントロールと超高解像度イメージングシステムを採用し、高品位なパターンを作成し、最新世代のフォトリソグラフィー抵抗材料と互換性があります。