中古 NIKON NSR S204B #9243041 を販売中

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ID: 9243041
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Scanner, 8" Process: Masking Operation rack Control rack LLPP Lens purge kit Hardware: PCB Boards: LC, ALG, OPD, STG, S/G, RL, WL, Interferometer VME LSA Laser head: 3225H-PCN Reticle stage interferometer laser head: 5517D C07 (5517DL) Wafer stage interferometer laser head: 5517D C06 Reticle indexer: R150 DMCC Digital workstation Consumable: SE-0257120 Halogen lamp CYMER ELS-6400 Laser Faulty parts: ADE-Z Amp Reticle loader CT drive motor Wafer loader OF unit - Pre aligner linear guide (4) VRA CCD Camera heads missing 2000 vintage.
NIKON NSR S204Bは、先進的な半導体製造アプリケーション向けに設計された最先端のウェーハステッパーです。NIKON独自のVaritecTM装置を採用したNIKON NSR-S204Bは、マルチパターニングモードとシングルエクスポージャーの両方で動作可能です。低NA (Numerical Aperture)で高分解能を実現する高度な光学システムにより、ステッパーは高スループットで高分解能パターンを生成することができます。さらに、ウェーハステッパーはマニュアル機能とオートフォーカス機能の両方を備え、素早く簡単にアライメントできるように設計されています。NSR S 204 Bは、包括的な機能を備えて設計されており、高度なリソグラフィ用途に最適です。例えば、その酸化管理システムは、高度な半導体デバイスの製造における欠陥の少ないプロセスをサポートするために開発されています。また、NIKON独自の「Smart Recipe Generator」を搭載し、直感的なドラッグアンドドロップインターフェイスを使用して最適化されたレシピを迅速に生成します。ウエハステッパーには超高真空(UHV)チャンバーユニットも内蔵しており、酸化や汚染による欠陥を防ぎます。NSR S204Bには、さまざまなアクティブモーションおよびパッシブモーション制御システムも含まれており、より高い精度とスループットを実現します。二軸ステージコントロールにより、10 μ mのステップサイズでも10nm以下の精度で高精度なパターンを実現しています。また、ウェーハステッパーには高速ズームモジュールが組み込まれており、手動でリセットすることなくパターンを再現することができます。さらに、NIKON NSR-S 204 Bは、高精度のプロジェクションオプティクスとアライメントマークの両方を使用して、高精度パターンアライメントを実現します。NIKON独自のICF (Image Circle Fit)を使用すると、オーバーレイ精度が複数の基板にわたってパフォーマンスを最大化し、歩留まりとデバイスの信頼性が向上します。NSR-S 204 Bは、半導体製造などの高精度パターニング用途向けに設計された先進的なウェハステッパーです。これにより、マルチパターニング、低電圧リソグラフィ、超低臨界寸法半導体プロセスなどの高度なリソグラフィ手法に最適です。NIKON NSR S 204 Bは、高度な半導体デバイスの生産に最適な製品です。
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