中古 NIKON NSR S204B #293799832 を販売中
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ID: 293799832
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2000
Stepper, 6"
Wafer type: Flat
SiC Pin chuck
Resolution: ~ 0.2 µm
Exposure field: 26 x 33 mm
Reticle, 6"
Pre-alignment: NC Pre2
CYMER ELS 6400 Laser
Reticle alignment
Wafer alignment
Auto focus
Auto feeder
Wafer tilt
Wafer holder
BMU
PPD
Power supply: 200 V, 3 Phase
2000 vintage.
ニコンNSR S204は、半導体製造工程で使用されるリソグラフィ装置の一種であるウェハステッパーです。NSR S204は、最新のウェーハプロセッサ技術を搭載した先進ステッパーです。NIKON S204は、25X低減比で150mmの広いフィールドサイズを有し、ウェーハにエッチングする際の製品の正確な再現を可能にします。NIKON S204の先進光学系は、高精度なイメージングを可能にし、高品質な基板の効率的な生産を可能にします。NIKON S204は、ウェーハの正確なアライメントを実現する5軸モーションコントロールシステムを搭載しています。これにより、ウェーハ表面へのパターンの正確なアライメントが可能になり、+/-2nmのアライメント精度が可能になります。さらに、NIKON S204のz軸アライメントユニットは、最大+/-3ナノメートルの表面パターンの再現性を可能にし、非常に正確なパターニングを可能にします。さらに、NIKON S204はオートフォーカス機を使用して基板の照明までを保証し、パターン化されたプロセスで高い精度と再現性を実現しています。NIKON S204の対物レンズは基板曲率に応じて自動的に動かすことができるため、さまざまな基板に素早く適応でき、ウェーハの迅速な生産が可能です。NIKON S204には、微細加工プロセスをより効率的かつ正確にするためのハイエンド機能も多数搭載されています。高度なダイナミックフォーカス安定化により、ウェーハの温度変化によるフォーカスの変動を低減します。さらに、エッジぼかし制御機能により、エッジぼかしを最小限に抑えた均一なパターンを作成できます。NIKON S204には、フォーカス、膜厚、露出などのレンジキーパラメータを正確に測定する独自のNIKON Exposure Control Tool （NEX）もあります。NEXは、前のショットの測定された膜厚に基づいて、各ショットの露出レベルを調整し、結果は一貫しています。全体として、NIKON S204ウェーハステッパーは強力で高度なステッパーであり、高精度なウェーハを効率的かつ正確に製造することができます。その高度な機能の広い範囲は、非常に効果的な微細加工プロセスを保証します。
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