中古 NIKON NSR S204 #293593219 を販売中

ニコンNSR S204は、高解像度マイクロチップの信頼性の高い生産のために設計された先進的な半導体リソグラフィ装置です。このシステムは、i-lineリソグラフィ投影光学系をベースにしており、ニコンのNSR露光技術を活用して、ウェハ製造プロセスにおいて比類のない精度と再現性を実現しています。0.05µmの繰り返し精度と0.05µm+0.2µmの最小露光距離を備えたNSR S204は、高解像度アプリケーションに最適なツールです。NIKON NSR S204は、幅広い露光モードと制御可能なパラメータをユーザーに提供する、露光機能の完全なセットを提供します。このユニットには、可能な限り最高の解像度、精度、速度を実現するための高度なソフトウェアツールとハードウェアコンポーネントのスイートが含まれています。また、露出プロセスを完全に制御できるため、露出設定を微調整しながら高品質な結果を出すことができます。NSR S204には、高感度線形視野（LFOV） エリアスキャンタイプCCDイメージセンサーと2次元スクロールモード（TDSM）ステージが装備されています。この組み合わせにより、高速で反復可能なスキャンが可能になり、優れた繰り返し精度が得られます。2つの要素の組み合わせにより、オペレータの介入がほとんど必要とされない完全に自動化されたプロセスが提供されます。このツールは、優れた波長精度で365nm-440nmの波長範囲を備えています。アセットは、曲面フィールドモデルを使用することにより、迅速な設定時間とダウンタイムを短縮します。NIKON NSR S204の機能により、低プロセスから複雑プロセスのリソグラフィまで幅広い用途に適しています。NSR S204には、ウェーハアライメント、ウェーハローディングとアンロード、レンズのオートフォーカスなどの一連の自動機能が組み込まれています。また、リアルタイムのフィードバックとパフォーマンスのレポートを提供する包括的な監視装置が付属しています。汚染の可能性を最小限に抑えるために、包括的な安全性とインターロックシステムが含まれています。NIKON NSR S204は、信頼性の高い一貫した高解像度ウェーハ製造プロセスに最適なツールです。高度な機能を搭載しているため、あらゆる半導体製造プロセスにとって非常に貴重な資産です。