中古 NIKON NSR S203B #9357170 を販売中
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販売された
ID: 9357170
ウェーハサイズ: 8"
DUV Scanner, 8"
Reticle size, 6"
Wafer loader: Type 3
KOMATSU G10K Laser
Standard BMU
Left in-line
PPD
Bar code reader
Wafer holder flatness: 1.060 um
Field inclination: 0.184 um
Exposure power: 325 mW / cm²
Integrated exposure dose control: 0.45%
Array orthogonality: 0.034 sec
Reticle rotation: 0.004 um
Overlay (LSA):
X: 0.024
Y: 0.042
Overlay (FIA):
X: 0.029
Y: 0.030
Lens distortion:
X: -0.013 ~ 0.019
Y: -0.013 ~ 0.014
Reticle blind setting accuracy:
YF: 0.60, YB: 0.55
XM: 0.60, XP: 0.60
Stepping accuracy:
X: 0.021 um
Y: 0.022 um.
ニコンNSR S203Bは、高度なリソグラフィープロセス用に設計された最先端のウェーハステッパーです。半導体デバイス製造に使用されるイマージョンタイプの工具です。この装置は、最適化された光学システムを備えており、0.13µmの分解能、0.07µmのステップサイズ、1.7µmの焦点の深さを可能にします。このユニットは、サブミクロンのリソグラフィ解像度を生成できる高度なマスクアライナーです。高速6kWレーザーオートフォーカス機と6軸オートレベリングコントロールを搭載し、イメージングの均一性と精度を向上させます。これにより、露出ステージにウェーハを正確に配置し、露出の最適な焦点を達成することができます。また、露出後に屈折率が変化するのを防ぐために、液冷ジャケット付きの高度な冷却ツールを提供しています。この資産によって達成される精度は、可能な最高品質のリソグラフィを確保するために不可欠です。NIKON NSR-S203Bは、全自動露光操作、高精度露光モデル、1%を超える露光精度レベルなど、幅広い機能をユーザーに提供するよう設計されています。露光装置は、高いスループットと露光時間の低いレジスト層の補償システムを組み込み、露光の速度と精度を最適化します。制御ユニットは、ウェーハと露出ユニットの完全な同期を保証し、露出パラメータを調整する機能を提供します。また、高効率の温度制御環境チャンバーを備えており、熱変動への暴露から部品を保護します。これにより、デバイスの熱安定性が大幅に向上し、潜在的なイメージエラーも低減されます。さらに、このツールはアクティブな振動制御アセットを提供し、露出時間を短縮して最高品質のイメージングを保証します。NSR S203Bはまた、小型フィーチャー、高解像度マスク、および複雑な露光のために開発された高度なアルゴリズムを使用して、優れた画像処理結果を提供します。高解像度カメラと高度な画像処理アルゴリズムを使用して、露光プロセスをさらに強化します。カメラは、ウェーハ上の汚れや傷を検出し、自動的にそれらのために調整することができます。このモデルには、装置をプログラミングするための洗練されたユーザーインターフェイスも含まれており、ユーザーは露出パラメータとパラメータを素早く設定できます。全体として、NSR-S203Bウェーハステッパーは、高精度、高速、高スループット、高精度の露出プロセスを提供できる高度なリソグラフィープラットフォームをユーザーに提供します。デバイスメーカー向けのオールインワンソリューションとして設計されており、最高のイメージング性能と精度を提供します。
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