中古 NIKON NSR 4425i #9225991 を販売中

NIKON NSR 4425iは、ナノテクノロジーや半導体製造における魅力的なリソグラフィ用途をサポートするために設計された次世代ウェハステッパーです。マスクとウェーハの正確かつ精密なアライメントにより、半導体デバイスの製造に使用されるフォトマスクの複雑で立体的なパターン転送と高い信頼性が可能になりました。0。15ミクロン生成〜5xnmプロセスに最適な最先端の4ビーム装置です。NIKON NSR-4425Iにより、製造メーカーはプロセスの歩留まりを改善し、基板上の印刷可能な機能の精度を高めることができます。NSR 4425 Iは、優れた速度と精度を備えたプロジェクションアライナーであり、10nm以下の解像度で毎秒最大200ステップを提供できます。最大200mmまでのウェーハサイズ、最大撮影サイズ27mmまでの投影エリア、1。5nmライナーエラーのショットツーショットのオーバーレイ精度を提供します。ステッパーには、高精度のリニアステージ、振動シールドワークアーム、CMOSベースのオートフォーカスシステムも備えています。また、高速ファインアライメントユニットNSR-4425I搭載し、高精度性能を実現します。NSR 4425iのプロジェクターは100倍良い一貫性のquadrilobeの照明機械を使用します。また、非常に大きなスキャン場を生成する高輝度光源を備えており、大きな基板をより迅速かつ正確に印刷することができます。また、NIKON NSR 4425は、直交または曲面に印刷するためのマスクパターンを正確に分解することができます。NIKON NSR 4425iは、自動起動および自動停止操作、繰り返しフォーカストラッキング、標準的なツールと設定を備えた内蔵のリソグラフィーライブラリを備えたユーザーフレンドリーです。作り付けの設定は照明および生産条件を均等にし、オペレータがプロセス条件に従って変数を調節することを可能にします。さらに、NIKON NSR-4425Iは高度な計測と欠陥測定ツールを備えています。このアセットを使用すると、ユーザーは正確にアライメントを監視して測定し、形状と線量、フォーカスとエッジの配置、各ショット位置での汚染を公開し、潜在的な欠陥を報告することができます。NSR 4425 Iは多種多様なプログラム可能なオプションを持っており、簡単に生産ラインに統合することができます。統合されたネットワーク機能を搭載し、さまざまなワークステーションからモデルのリモート監視と制御を容易にします。また、外部試験や計測システムとの連携も可能で、ユーザーは詳細な製品データを収集して分析やプロセス制御を行うことができます。全体として、NSR-4425Iは高度なウェーハステッパーであり、優れた速度、安定性、精度で高精度なパターンを製造することができます。これは、幅広いリソグラフィ用途に適した信頼性とユーザーフレンドリーなマシンです。