中古 NIKON NSR 4425i #293719076 を販売中
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ID: 293719076
ウェーハサイズ: 8"
Stepper, 8"
Reticle loader
Reticle size, 6”
Field size: 44 mm x 54 mm
Library slot: 13
Wafer type: Notch
Wafer loader: Type 2
Wafer alignment: LSA, FIA and EGA
Disk drive: SSD / DOS
Ring chuck
WS-Ball screw
(2) Cassettes
Control rack
PC.
NIKON NSR 4425iは、半導体リソグラフィープロセスの厳しい要件を満たすように設計された最先端のウェーハステッパーです。この高度なツールは、精度、速度、柔軟性を兼ね備えており、ナノメータスケールでシリコンウェーハ上の集積回路の高解像度パターニングを可能にします。NIKON NSR-4425Iの中心には、深紫外線（DUV）光源を利用した高度な光学機器があり、通常は波長193 nmで動作します。この短い波長光により、高密度な機能を備えた先端半導体デバイスの製造に不可欠な高解像度パターニングを実現します。NSR 4425 Iは、フォトレジストコーティングされたシリコンウエハにDUV光を集光する際に重要な役割を果たす、最先端の異方性レンズユニットを備えています。レンズマシンは、ミラーとレンズの組み合わせで構成され、光収差を最小限に抑え、最適な画質を実現します。これにより、パターンがフォトマスクからウェーハに正確に転送され、卓越した忠実度と解像度が保証されます。NSR 4425iの主な利点の1つは、高度なアライメントとオーバーレイ機能です。このツールには、フォトマスク上のパターンとウェーハ上のパターンを正確に調整する高度なアライメントアセットが装備されており、機能が互いに正確に配置されています。これは、半導体デバイスの性能と機能に欠かせない、タイトなオーバーレイ公差を実現するために不可欠です。NIKON NSR 4425 Iは、アライメント機能に加えて、露出プロセス中のウェーハの正確な移動と位置決めを可能にする高度なステージコントロール機能を提供します。この高いレベルの制御により、ウェーハ全体の一貫した均一な露出が可能になり、表面全体に一貫したパターンが作成されます。NSR-4425Iはまた、リソグラフィ処理を合理化し、ヒューマンエラーのリスクを低減する高度なオートメーション機能を備えています。このモデルは、複雑な露光シーケンスを自動的に実行するようにプログラムすることができ、オペレータの介入を最小限に抑え、全体的なスループットを向上させます。このオートメーション機能は、速度と効率が重要な大量の製造環境にとって特に有益です。さらに、NIKON NSR 4425iには、露光量、フォーカス、アライメントなどの重要パラメータを継続的に監視する高度な監視および制御システムが組み込まれており、最適なプロセス性能と歩留まりを確保しています。装置はリアルタイムのフィードバックと調整を提供するように設計されており、オペレータはリソグラフィープロセス中に発生する可能性のある問題をすばやく特定して修正することができます。全体として、NIKON NSR-4425Iは、高分解能半導体リソグラフィ用途向けの最先端ソリューションです。高度な光学システム、精密アライメントおよびオーバーレイ機能、オートメーション機能により、半導体メーカーは、最先端の集積回路の製造に必要な高いレベルのパターン精度と一貫性を達成することができます。
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