中古 NIKON NSR 2205 iL1 #293808780 を販売中

NIKON NSR 2205 iL1
ID: 293808780
ウェーハサイズ: 8"
I-Line stepper, 8" Material: GaN on Silicon / Silicon Wafer OF Type: Notch Wafer carrier: Open cassette Temperature: 23°C TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 Coater / Developer system Wafer holder type: Narrow pitch Thick / Thin wafer Reticle size: 6" Reticle library slot: 26 Reticle barcode reader UPS Signal Tower Resolution: Conventional: 0.50 μm 1/2 Annular: 0.35 μm Lens distortion: ≤±50 nm Magnification control accuracy: ≤±20 nm Maximum exposure area: 22.0 mm x 22.0 mm Reticle blind setting accuracy: +0.4 mm to +0.8 mm Exposure power: ≥700 mW/cm² Reticle rotation: ≤20 nm Array orthogonality: ≤±0.1 sec No In-line No IR Alignment No PPD Power supply: 200 VAC, 50 Hz.
NIKON NSR 2205 iL1ウェーハステッパーは、半導体製造用に設計された最先端のリソグラフィーツールです。精度とスループットを重視し、高度なテクノロジーノードの需要が急速に拡大している大量生産環境に最適です。NSR 2205 iL1は、最先端のテクノロジーと革新的な機能を組み合わせ、優れたイメージング性能とプロセス制御機能を提供します。NIKON NSR 2205 iL1の中核には、300mmまでのウェーハ上の高解像度パターニングに最適化された高度なレンズシステムがあります。レンズユニットは、光収差を最小限に抑え、視野全体の画質を最大化する洗練されたマルチエレメントデザインを備えています。1。35の数値絞りにより、このマシンは50nm以下の特徴を優れた忠実度で解決することができ、最も要求の厳しいリソグラフィ用途に適しています。NSR 2205 iL1には高精度のステージツールが搭載されており、露出工程中のウェーハの正確な位置決めとアライメントが可能です。ステージアセットは、振動を最小限に抑え、高速でも安定した動作を保証する高度なモーションコントロールアルゴリズムを備えています。この精度は、高度な半導体プロセスの厳しい要件を満たすために不可欠な、厳密なオーバーレイとクリティカルな寸法制御を実現するために不可欠です。NIKON NSR 2205 iL1の主な特徴の1つは、高度なアライメントとフォーカスコントロール機能です。このモデルでは、レーザー干渉計と位相検出技術を組み合わせてサブミクロンのアライメント精度とフォーカス制御を実現し、最適な焦点深度でパターンをウェーハ表面に正しく配置することができます。このレベルの制御は、プロセスのバリエーションの存在下でも、ウェーハ全体にわたって高いパターン忠実度と均一性を達成するために不可欠です。NSR 2205 iL1はまた、ウェーハ表面に均一で高輝度の光を届けるように設計された洗練された照明装置を備えています。システムには、リソグラフィープロセスの特定の要件に合わせて調整することができる、軸外および環状照明を含む照明モードの範囲が装備されています。この柔軟性により、異なるタイプのパターンや材料の露光条件を最適化し、リソグラフィープロセスの性能と歩留まりを最大限に引き出すことができます。NIKON NSR 2205 iL1は、高度なイメージングおよびアライメント機能に加えて、包括的なプロセス制御および監視ツールを備えています。このマシンは、用量、フォーカス、オーバーレイなどの重要なプロセスパラメータをリアルタイムで監視できるため、オペレータは製品品質に影響を与える前に、目標値からの偏差を検出して修正できます。このプロアクティブなプロセス制御アプローチは、欠陥のリスクを最小限に抑え、全体的な生産効率を向上させます。全体として、NSR 2205 iL1ウェーハステッパーは、先進的な半導体製造のための最先端のリソグラフィーソリューションです。このツールは、高度なイメージング、アライメント、およびプロセス制御機能を備えており、50nm以下の機能の正確なパターニングが必要な大量生産環境に適しています。NIKON NSR 2205 iL1は、最先端の技術と革新的な機能を融合させることで、次世代デバイスの生産において最高レベルの性能、生産性、歩留まりを実現します。
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