中古 NIKON NSR 2205 i10C #9100801 を販売中
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販売された
ID: 9100801
ウェーハサイズ: 8"
Steppers, 8"
Reticle, 6"
Applications specifications:
Resolution: 0.45 µm
Expose source: i-Line (365 nm)
Reduction: x 5
Expose field: 21.2 x 25.2 mm, 20 x 20 mm
Alignment accuracy: 0.09 µm (3 Sigma)
CD Uniformity: Max-min <= 0.04 um
Lens distortion: +/- 0.05 um
Hardware configuration:
Lens type: 5iB3S
Realignment orientation: 3:00
Wafer loader type: Type 1
Wafer type: Notched
Reticle microscope compatibility: 21.2 / 22.0 mm
Cable length: 5.0 Meters
Pellicle particle detector (Pellicle only)
Variable numerical aperture: 0.50-0.57
Selected NA: 0.50
Reticle bar code reader
Decnet
AMS
Online (OCS): NIKON SECSI / SECSII
Wafer holder: Ceramic low contact type 1
FIA
LIA
Total overlay: Up to 20 NSR's
Test reticle: R2205HA Ver.6.56 (6"-22.00 mm)
Chip leveling
Extended library
Extended wafer carrier table
Inline: Left (Nikon standard layout)
Not included:
Particle detector
Wafer edge exposure system
Multi reticle changer
SHRINC 1
Performance analysis process (PAP)
Self-measurement program (SMP)
Low particle black ceramic wafer loader fixtures
Pre alignment 2
Detector.
ニコンNSR 2205 i10Cは、高度でコンパクトなウェーハステッパーです。このウェーハステッパーは、半導体マイクロプロセッサのフォトリソグラフィック生産において効率的かつ正確にアライメントするために設計されています。完全に閉じられた光学機器、高トルク駆動システム、高速スキャン速度を備えており、すべてが指定されたタスクで非常に効率的です。NIKON NSR-2205I10Cには、正確なアライメントのための2次元アライメントが用意されています。マスクからの画像を捉えるイメージセンサ、最高のスキャン速度での平準化と不規則性の低い高分解能の平面内歪みステージ、スムーズで正確なセグメント回転を保証する高い入力精度を備えています。結晶焦点面は、リソグラフィ環境に合わせて広い視野と優れた焦点深度を提供し、スキャン中にウェーハの脆弱なパターンを保護します。NSR 2205 i10Cは、高トルクドライブユニットを使用して、ウェハを高速かつ高精度に整列させます。これは、ブラシレスダイレクトカップリングモータ（BDM）とスリットレスステッピングモータ（SSM）の2種類のモータの組み合わせによって提供されます。BDMは高い位置分解能と低振動で滑らかな動きを提供し、SSMは高速で中断のない位置制御を提供します。この2つのモータの組み合わせにより、NSR-2205I10Cは高いスキャンレートでもウェーハの正確なアライメントを保証します。ニコンNSR 2205 i10Cは、マイクロストレージとフライングスポットレーザーアライメントマシンも備えています。これにより、ウェーハの位置を微調整できるため、アライメントの精度が向上します。このツールは、任意の不一致を迅速に検出し、修正することができ、成功したリソグラフィープロセスを確保します。NIKON NSR-2205I10Cは、フォトリソグラフィック生産におけるウェーハの整列と位置決めを安全かつ費用対効果の高い方法で提供するように設計されています。このアセットは、最大0。3 µmのアライメント精度を実現するように設計されており、効率的な設計と正確なアライメント機能により、複雑な生産環境でのスループット向上をサポートできます。
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