中古 NIKON NSR 2005 i9C #9003511 を販売中

NIKON NSR 2005 i9C Wafer Stepperは、半導体回路と部品を製造するための汎用性の高い正確なウェハリソグラフィ装置です。このマシンは、ライン/スペースパターン解像度22nmの高度なデバイス構造を生成することができ、1回のショットで8インチの面積をカバーすることができます。NIKON NSR2005I9Cウェーハステッパーは、最新の高精度画像投影オプティクスを搭載し、従来のリソグラフィーシステムに比べて優れた解像度と焦点精度を提供します。メインコントロールユニット、ウェーハステッパー、光源の3つのユニットで構成されています。メインコントロールユニットには、ウェーハの画像およびデータを制御および処理するために必要なすべてのソフトウェアおよびハードウェアコンポーネントが含まれています。コンポーネントには、コントローラ、コンピュータ、モニター、ネットワーキングデバイスが含まれます。ウェーハステッパーユニットには、ユニット内のウェーハを正確に再配置し、リソグラフィ用に正確に配置するために必要なモーターとオプトエレクトロニクスが含まれています。また、ウェーハと光学系の向きを制御するためのステージテーブルとコントローラボードも含まれています。光源は、ウェーハ表面の画像を生成するために必要な光線を提供します。NSR-2005I9C Wafer Stepperには、ユーザーフレンドリーなグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）と、ウェーハデータを保存、管理、制御するための高度なパーティクルイメージングデータベースが含まれています。GUIは、リソグラフィーツールへの画像データの手動編集および注入にも使用できます。NSR 2005-I9C Wafer Stepperは、高精度で安定したウェーハステージで設計されており、リソグラフィープロセス全体にわたってスムーズで信頼性の高い正確なパフォーマンスを提供できます。このアセットには、ハイエンド光学系で構築された高度な光学モデルも含まれており、優れた画質を提供します。さらに、NSR 2005 i9C Wafer Stepperには、基板を正確に見つけ、マスクを揃え、ウェハ上のパターンを特定するための高精度アライメント装置が装備されています。つまり、5ミクロン未満の距離でもマスクの端や角を正確に見つけることができます。また、高速駆動機構により、高価なキャリブレーションを必要とせずに、迅速な動作とウェーハの動きを高精度に制御することができます。最後に、NSR 2005I9C Wafer Stepperは、加熱チャンバーと高度な温度制御システムで設計されており、ステッパー内の正確な温度設定と安定化を可能にします。これにより、環境および加速度の要因を最小限に抑え、半導体デバイスの生産品質を最適化します。