中古 NIKON NSR 2005 i10C #9227509 を販売中

ニコンNSR 2005 i10Cは、半導体製造のために設計されたリソグラフィーステッパーです。シリコン、ヒ素ガリウム、金属合金、その他の半導体、誘電体など、幅広い材料で高精度なパターンを生成することができます。i10Cはステッパー技術を利用しており、複雑な設計を基板上に再現可能かつ正確にパターニングすることができます。ステッパー技術では、パターンは、紫外線のビームまたは電子またはイオンビームからウェーハまたは基板にエッチングされます。リソグラフィでは、光または電子のビームがマスクを通して基板またはウェーハに向けられ、集中します。マスクを通過する光または電子がウェーハに適用され、画像が作成されます。i10Cは高NAレンズと0.091µm分解能を備えており、高精度なパターニングが可能です。また、高度なスキャンレスアライメントヘッドを搭載し、3次元のパターンの非常に高精度なアライメントを提供します。また、サブリゾリューションアシスト機能（SRAF）も備えており、サブリゾリューションコンポーネントの精度とスループットを向上させます。ニコンNSR 2005I10Cは、汚染防止フード、ライトカーテン、非接触液体供給システムなど、多くの安全機能を備えています。さらに、このシステムには、ステッパーとそのコンポーネントの動作条件を監視するためのセンサーと検出器が多数内蔵されています。このi10Cは、1時間あたり最大200個のウェーハを処理するように設計されており、ダウンタイムと最大使用率を最小限に抑えるために最適化されています。その高度な機能は、柔軟性と一貫した処理の両方を可能にします。ステッパーは非常に信頼性が高く、10nm以下のエッジ配置でパターンを生成することができます。要するに、NSR-2005I10Cウェーハステッパーは半導体および誘電材料のための高度なリソグラフィー機械です。高いNAレンズと0.091µmの解像度、安全機能と高度な機能を備えています。このマシンは、1時間あたり最大200ウェーハの速度で非常に正確で正確なパターンを生成することができ、その高度な機能は柔軟で信頼性の高い処理を提供します。