中古 NIKON NSR 1505 i10D #146913 を販売中
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ID: 146913
ウェーハサイズ: 6"
Stepper, 6"
Performance Specification:
Expose Source: i-Line (365nm)
Reduction Ratio: 5:1
Lens: 5IB5
Expose Field: 20mm Diameter -15mm x 15mm
Exposure power: >800mW/cm2
Alignment System: LLTC, FIA, SLTC
Hardware Configuration:
Wafer loader: 6" wafer stage
Wafer Loader: Type II
Cassette Elevators: 2
Wafer stage interferometer system
Reticle loader: Single Six
Reticle alignment system: SRA/ISS
Auto-Reticle blind system
Auto-focus system
Currently in a cleanroom.
NIKON NSR 1505 i10Dは、半導体チップ製造用の高精度、高度なウェーハステッパーです。最先端のオプトメカトロニクス技術を搭載し、要求の厳しい大量のリソグラフィーニーズに対応する精度とスループットを提供します。NSR 1505 i10Dは、10nmレーザーパターニング、1 nmオーバーレイ精度、および250 mmフィールド領域を備えています。ウェーハ1枚につき1〜3枚のパターン層を素早く正確に露出することができ、ステージ応力や振動によるパターン配置誤差を低減するように設計されています。また、優れた照明均一性を実現するハイエンドの単角照明システムを搭載し、極めて高密度なパターニングを可能にします。ニコンNSR 1505 i10Dのオプトメカトロニクスは、優れたリソグラフィ性能を提供します。独自の4ミクロンのピエゾ駆動リニアモーションステージを備え、ウェーハとステージの同時動作を安定性の高いものにします。さらに、ウェーハステージベースのアプローチは、ステッパーの補償範囲を250 μ mに拡張し、ローカルおよびグローバルの歪みに対する効率的なオンザフライ補償を可能にします。さらに、NIKON InCelli Transfer Technologyは、外部転送デバイスの必要性を排除することにより、ステッパーのフットプリントを低減する非接触ウェハ転送を提供します。マクロプレビュー機能は、露出前のレイアウトの主な特徴を分析し、グローバルパターンの歪みを補正しながら、適切なフォーカス値とオーバーレイ値を選択して露出戦略を最適化します。NSR 1505 i10Dには、パーティクルフリーパターニングの改善のために設計された特殊な照明ヘッドも付属しています。オイルフリー粒子やフォトレジスト混合による粒子の低減や、3ビーム同時照射によるバイパス検査性能の向上に貢献します。これは包括的なサービスパッケージによって支えられており、中断時間を最小限に抑えながら、クラス最高のツールの可用性と効率的なメンテナンスを提供します。ステッパーのユーザーフレンドリーな環境にはPASIV™ハイエンドのグラフィカルユーザーインターフェイスと豊富な操作カスタマイズが含まれています。全体として、NIKON NSR 1505 i10Dは、半導体チップ製造のための高度で高精度なウェーハステッパーであり、最先端のオプトメカトロニクス技術により、要求の厳しい大量のリソグラフィニーズに優れた精度とスループットを提供します。
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