中古 ASML XT 760F #9305673 を販売中
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ID: 9305673
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
DUV Scanner, 12"
External interface module
Bottom module
Reticle stage
Covering panels frame parts
Covering panels frame MCAB
Covering panels
RSRC Cabinet
MCWC Cabinet
MDC Cabinet
LCWC Cabinet
Exhaust cabinet
Machine parts clean folder
Side channel blower
(6) Machine parts
Double stage
Hard Disk Drive (HDD), 4.1.0
Locking kit
TAMIS (EMTA):
Z7 Offset: ±4.0 nm (-5.96)
Z8 Offset: ±4.0 nm (-1.11)
Z7 Tilt in X: ±2.0 nm/cm (-0.04)
Z9 Offset: ±4.0 nm (0.48)
SAMOS (EMCA):
SAMOS: ≤3% (1.74)
SLIT Uniformity (LUSU):
- / NA / S.In / S.Out / Control spec / Down spec / Result
Annular (M-Action) / 0.7 / 0.55 / 0.85 / 1.50% / 3.00% / 0.31
Conventional / 0.65 / 0 / 0.75 / 1.50% / 3.00% / 0.26
Conventional / 0.7 / 0 / 0.6 / 1.50% / 3.00% / 0.28
Model result parameter:
Best focus: ±0.015 (0.002)
Image height C1 (um): 0 ±0.015 (0.002)
Image height C2 (um): 0 ±0.015
Image height different (um): 0 ±0.015
Image tilt ry C1 (urad): 0 ±0.5 (-0.279)
Image tilt ry C2 (urad): 0 ±0.5
Image tiltry different (urad): 0 ±0.5
Intrafield:
Focus range chuck 1 Before: <120 nm (91.6)
Focus range chuck 2 Before: <120 nm
Focus range chuck 1 After: <120 nm (89)
Focus range chuck 2 After: <120 nm
Focus range C1 different (nm): 0 +15 (2.6)
Focus range C2 different (nm): 0 +15
Astigmatism range C1 different (nm): 0 ±5 (0.6)
Astigmatism range C2 different (nm): 0 ±5
Result after correction:
IPD Mean (nm): <120 (89)
IPD STDEV (nm): <10
Astigmatism mean (nm): <70 (36)
Astigmatism STDEV (nm): <10
Dose accuracy and repeatability performance (ODAR):
Dose accuracy: <2.0 (max) (1.416)
Dose repeatability: <0.5 (0.057)
CYMER Laser not included
2006 vintage.
ASML XT 760Fは、高度な半導体デバイスの生産のための市場をリードするソリューションとして機能するように設計された次世代の高度なウェーハステッパーです。ASML XT:760Fは、深紫外線リソグラフィ（DUV）やエキシマレーザー（EUV）などの技術をサポートするウェハステッパーです。優れた精度と高スループットを実現し、半導体製造プロセスをさらに最適化します。XT 760 Fは、従来のウェーハステッパーとは異なる高度な機能を多数備えています。それは最高レベルの正確さおよび安定性を提供する高速、二軸サブミクロンの段階装置を特色にします。デュアル軸システムは、ポジションエンコーダとポジションセンシングサーボモータ、およびアダプティブフィードフォワード/フィードバック制御アルゴリズムを使用して、ステッパー内のウェーハの非常に正確な位置決めを提供します。さらに、ASML XT 760 Fは信頼性の高い収差補正ユニットを提供し、ニコンのプロジェクションオプティクスの最も急なレベルでも、ウェーハの全領域にわたって画質を維持します。XT 760Fはまた柔軟で容易に調節可能な機械を可能にするモジュラー設計を特色にします。モジュラー設計により、ウェーハステッパーの光学系を最大限に保護することができます。これにより、ウェーハアクションやアライメントが許容できない変化を引き起こす可能性があります。XT:760Fの高度な制御ツールはまた、エッチングや研磨などの追加のプロセスの統合を可能にします。ASML XT 760Fは、ISO/EEE 9000規格に準拠した完璧なウェーハ処理を提供します。プロセスパラメータは、複数の露出に従っても均一で反復可能です。また、ASML XT:760Fは、ウェーハ残留性能が低い極めて高いスループットでの走行が可能です。XT 760 Fは、ウェーハ処理の高い再現性を実現することで、高度な半導体デバイス製造プロセスを可能な限り高い精度で実現します。要約すると、ASML XT 760 Fは、優れた精度、高スループット、優れた画質、高い再現性を提供する高度なウェーハステッパーであり、高度な半導体デバイスの製造のための市場をリードするソリューションです。
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