中古 ASML XT 1950Hi #293802187 を販売中
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ID: 293802187
ウェーハサイズ: 12"
Lithography system, 12"
Load ports laser
Hard Disk Drive (HDD)
Immersion lithography: 193 nm
Resolution capability: 38 nm
Overlay:
SMO: 4 nm
MMO: 7 nm
Throughput: 148 WPH
CYMER XLR-560i
Resolution: 193 nm
Laser: 60 W / 6 kHz with E95 Bandwidth monitoring
Controls: UNIX / SUN Architecture
Aerial XP Illumination system
P type: Illumination alignment
Alignment: Blue align with narrow mark
Focus and Field-by-field levelling
Focus spot monitoring
Circuit Dependent Focus Edge Clearance (CD-FEC)
Dual E-Chucks
LS-MATCH2 (XT) Image streaming
Overhead reduction: 1 and 2
Productivity Enhancement Package (PEP)
In-situ metrology: Sensor module
UNICOM XT: Dose mapper ArF
(15) QUASAR XL Slots
Reticle shape correction
2DE Grid calibration
Twinscan overlay package
Water cooling for electronics cabinet
Integrated Reticle Library (IRL-XP) for H-SPEC Systems
Integrated Reticle Inspection System (IRIS-XT)
Reticle streaming: Spotless G and H
Twinscan Grid mapper
TEAL PCDU-XT1900 Distribution unit
FSM flex package
Aux port 300 mm FOUP / 25 Wafers
Reticle with defect: 40 nm
SMASH XY
ZEISS Starlight: 1950
XCDA Gas purification system:
Purifier canister: Optics series, 10 MH, SS
XCDA Gas purification system bypass manifold:
Manifold 3 Valve: 10 m
Filter housing
Cabinet
ESI Vaporsorb: EX2600
Filter set
Throughput: 148 WPH
CE Marked
Laser power: 60 W
Power conditioner: 135 kVA.
ASML XT 1950Hiは、大量の半導体製造のために設計された最先端のウェーハステッパーです。フォトリソグラフィ機器のリーディングプロバイダーであるASMLによって構築されたこの装置は、高度な半導体デバイスの生産のための極めて精度と汎用性を提供し、パターニング技術の最新の進歩を表しています。ASML XT1950HIの中心には、革新的なハードウェアとソフトウェアソリューションを組み合わせた先進的なプラットフォームがあり、重要な寸法制御におけるサブナノメートルの精度を実現しています。このレベルの精度は、次世代半導体デバイスの縮小と複雑さの増大に不可欠です。XT 1950Hiの主な特徴の1つは、ウェーハ表面全体に均一で高解像度のパターニングを実現するために多極照明技術を活用した高度な照明システムです。光の強度と角度を正確に制御することができ、忠実度の高い複雑なパターンのパターン化を可能にします。最先端の照明装置に加え、サブナノメートル位置決め精度XT1950HI実現する高精度ステージツールを搭載しています。このステージアセットにより、ウェーハとレチクルの正確なアライメントが可能になり、パターンがマスクからウェーハ表面に正確に転送されるようになります。ASML XT 1950Hiは、さらに性能を向上させるために、高速オートフォーカスモデルを搭載しており、露光時に最適な画質を維持するために投影レンズの焦点を迅速に調整します。この機能は、ウェーハ全体にわたって高解像度と均一性を実現するために不可欠です。ASML XT1950HIには、生産中にレチクルを迅速かつ正確に交換できる高度なレチクル処理装置が装備されています。この機能は、大容量の製造環境でのダウンタイムを最小限に抑え、生産性を最大化するために不可欠です。生産性の面では、XT 1950Hiは高いスループット能力を提供し、製造メーカーは優れた歩留まりと信頼性で1時間あたり多数のウェーハを生産することができます。この高いスループットは、高速露光時間、効率的なステージ移動、および生産プロセスを合理化する高度なオートメーション機能の組み合わせによって達成されます。XT1950HIはまた非常に適用範囲が広いように設計され、異なったパターン化の条件を収容するためにレチクルサイズおよびタイプの広い範囲を支えます。この柔軟性により、ロジックデバイスやメモリデバイスから高度なパッケージング技術まで、さまざまなアプリケーションにシステムを使用できます。全体として、ASML XT 1950Hiはウェーハステッパー技術の大幅な進歩を表しており、先進的な半導体デバイスの製造に業界をリードする精度、性能、生産性を提供しています。高度な機能と機能を備えたこのユニットは、極端な精度と効率が最も重要な、最も要求の厳しい半導体製造環境に適しています。
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