中古 ASML XT 1400E #9298749 を販売中

ASML XT 1400Eウェーハステッパーは、フォトリソグラフィ用途向けに設計されたリソグラフィーマシンです。高NA露光光学を利用して、処理前にイメージングシステムで撮影したウェーハの画像を生成するフルフィールドステップアンドスキャン装置です。フォトリソグラフィやフォトマスク製造など、幅広い半導体加工アプリケーションのイメージングに適しています。XT 1400Eリソグラフィーマシンは、1時間あたり最大18ウェーハのスループットと最大13mm正方形のフィールドサイズを提供し、中型および大容量の生産アプリケーションに最適です。最大675nmの解像度を処理するように設計されており、高解像度の光学系のために非常に薄く精密な層を開発することができます。このユニットは、最大1。4umの精度で12インチウェーハを処理するために使用できます。ASML XT 1400Eには、高度な露出とアライメント制御を提供できる最先端のスキャナコントローラが装備されています。このマシンには、アライメントパラメータの調整と微調整、および異なるレイヤーの露出設定の最適化に使用できる多数のドライバソフトウェアツールが装備されています。また、大規模なウェハ生産のために複数のスキャナを同時に制御することも可能です。XT 1400Eには、高解像度、高精度のステージムーブメントを提供するように設計されたモーションコントロールツールが装備されています。アセットは、クローズドループPID制御モデルを使用して、精度と再現性を確保します。また、機器のリモート制御を可能にする複数の入出力機能を備えています。ASML XT 1400Eは、高スループットでさまざまな化学物質の正確な投与量を提供するように設計された業界をリードする化学処理ユニットを備えています。このユニットは、濡れたプロセスと乾いたプロセスの両方、および選択的なエッチングとスパッタリングをサポートしています。この化学処理装置は、層間厚さの変化を読み取り、化学液滴の体積と配置を調整する機能も備えています。全体として、XT 1400Eは強力で信頼性の高い産業用ウェーハステッパーであり、正確なイメージングおよび化学処理結果を提供することができます。高いスループット速度と柔軟な設計と幅広い露光処理能力を兼ね備えているため、フォトリソグラフィやその他の半導体プロセスに最適です。