中古 ASML XT 1400E #9289672 を販売中
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ID: 9289672
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
Lithography system, 12"
SMIF / FOUP
ARF Scanner
Projection lens:
RMS Z5-Z37 : 3.16 nm
RMS Spherical: 1.62 nm
RMS Coma: 1.69 nm
RMS Astigmatism: 0.48 nm
RMS 3-Foil: 0.46 nm
Straylight at ref blocksize: 0.62%
Illumination:
Integrated slit uniformity setting: 0.44%
Illumination intensity setting: 1748 mW/cm2
Dose repeatibility: 0.199
Dose accuracy setting: 2.896
Pupil verification
Ellipticity setting: 1.879 mean
Focus and leveling:
Leveling verification:
Chuck to chuck focus difference: 5 nm
2005 vintage.
ASML XT 1400Eは、半導体リソグラフィ分野のリーダーであるASMLが製造した最先端のウェーハステッパーです。XT 1400Eは、マイクロエレクトロニクスの製造に精密なマイクロリソグラフィを提供する最先端の機械です。このマシンは、ウェーハ、回路パターン、およびその他のコンポーネントに導電層を作成するためにフォトレジストを露出するなど、高精度の製造作業に最適な高度な機能を多数備えています。ASML XT 1400Eは、光源、レンズ、ビームスプリッター、ブランキングシャッターの組み合わせを利用して、フォトマスクやレチクルからウェーハや試験基板にパターンを作成するシングルステップ光学リソグラフィーシステムとして機能するように設計されています。このマシンには、KrFおよびArFエキシマレーザーを含むさまざまな光源が装備されており、サブミクロン分解能の画像を作成するために使用することができます。ステッパーは、光学コヒーレンス断層撮影システムと組み合わせて使用することもでき、顕微鏡には小さすぎる機能を光学的に検査することができます。XT 1400EにはSensitive Precision Beam Alignment and Adjustment Tool (SPAT)も装備されており、ステッピングヘッドを正確にフォーカスしてウェーハ上を移動させることができます。SPATはレーザー干渉計とフィードバックシステムを使用して、露出フィーチャーの正確な位置、および線幅などのその他のパラメータを提供します。これにより、機械は1nm以下の公差で機能を生成することができます。ASML XT 1400Eには、CAM (Computer Automated Operation)機能も搭載されており、データベースから操作パラメータを保存および実行できます。機械はまた水晶、ポリカーボネート、および金属のマスクのようなフォトマスクの範囲と互換性があります。さらに、Pro-Lithogenスイートを含むさまざまな画像形式から選択することができ、さまざまなタスクを処理することができます。XT 1400Eは、最大20秒の露光時間で、高速かつ効率的に設計されています。このマシンは柔軟性を念頭に置いて設計されており、さまざまな定義済みマスク、光学システム、ステッピングヘッドと互換性があり、さまざまなアプリケーションに適しています。結論として、ASML XT 1400Eは、マイクロエレクトロニクス製造のための精密かつ効率的なマイクロリソグラフィーを提供する最先端のウェハステッパーです。サブミクロン解像度、自動化された操作、さまざまなマスクや画像フォーマットなど、さまざまな機能を提供する最先端のマシンです。
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