中古 ASML Twinscan XT 1250D #9393106 を販売中

ASML Twinscan XT 1250Dは、フォトマスクからさまざまなウエハ基板にパターンを転送できるウェハステッパーです。それはマイクロエレクトロニクスの適用の広い範囲のための速く、信頼できる高解像度の映写の印刷を提供するように設計されています。ASMLから入手可能な最先端のリソグラフィーツールであり、メモリやロジック集積回路、3D-imagingデバイスなどの高度なマイクロエレクトロニクス製品の製造に適しています。ステッパーは、高度な垂直スキャン装置を使用して、印刷された画像に非常に厳しい要件で投影印刷を実行することができます。また、ウェーハアライメントシステムを内蔵しており、スキャンして印刷するレチクル領域を正確に特定できます。その分解能は最大0。50 μ mの線形および0。45 μ mのオン軸で、ツールのスループットは毎時146-160ウェーハです。ASML TWINSCAN XT:1250Dは、高解像度レーザー投影イメージングユニットを備えており、ウェハレベルの正確な輪郭と印刷データの均一性を備えた高解像度画像を生成することができます。高度なマスクアライナーとリソグラフィーレベルの精度で補完されます。マスクアライナーは、1。5 μ mの精度で指定されたウェーハパターンにフォトマスクを自動調整することができます。また、TWINSCAN XT 1250 Dは、350nmおよび450nm露光用の深紫外線レーザーイメージングなどの高度な露光技術にも対応しています。さらに、幅広いアプリケーションに迅速なセットアップと簡単なプログラミングを可能にする高度なオンボードファームウェアマシンを備えています。このツールは、高性能メモリデバイス、有機発光ダイオードディスプレイ、ピッチ特性が非常に小さいイメージセンサーなどのアプリケーションに適しています。また、精密計測、フォトマスク修復、高解像度3Dイメージングなどの高度なアプリケーションにも対応できます。結論として、ASML TWINSCAN XT 1250 Dは、優れたイメージングとスループット機能を備えた高度なウェハステッパーです。さまざまなハイエンドのマイクロエレクトロニクス用途に究極の精密印刷を提供し、高解像度レーザー投影イメージングツールは非常に正確で均一なパターンを提供します。