中古 ASML PAS 5500 / 80 #293591386 を販売中

ASML PAS 5500/80は、デュアルアーマートップフレームを備えたASMLによるステップアンドスキャンベースの高度な投影リソグラフィ装置です。ウェーハ基板に精密な画像を投影するために使用され、通常は半導体チップの製造に使用されます。このシステムは通常、エンコードされたスキャナ、光学要素、アクチュエータおよび制御システムの配列を備えており、超短時間で再現可能なスキャンベースのステップを可能にします。ASML PAS 5500/80シリーズのリソグラフィーシステムは、最大1。5ナノメートルの解像度を提供し、最小スポットサイズで30nmの表面を露出することができます。このユニットには40nm分解能のフェーズプレートとICOS 4。0 UV液浸リソグラフィ技術マシンが付属しており、高いスループットと正確さを実現します。さらに、PAS5500/80シリーズは、他の多くのシステムとは異なり、高速化、プロセス最適化、およびリソグラフィ精度を提供します。これらの機能は、95nm、 80nm、および65nmノードに統合されています。PAS 5500/80ツールには、非球面レンズ、非球面ミラー、ビームスプリッタ、二クロイックフィルター、グレーティングなど、さまざまな光学部品とレーザーが装備されています。これらのコンポーネントとレーザーは、高解像度光学系の統合された組み合わせを形成し、ユーザーはより良いパターン登録、ラインとエッジの能力の向上、および解像度の均一性の向上を達成することができます。ASML PAS5500/80シリーズは、光学部品やレーザーに加えて、ヘリウムネオンレーザーと回折限界投影光学パッケージで構成されています。ヘリウムネオンレーザーは広範囲の波長シフトを可能にし、回折限られた投影光学パッケージはレチクル画像を増加させ、スポットサイズの収差と歪みの両方を減少させることができます。PAS 5500/80アセットには、モデルをより良く管理するために、コンピュータディスプレイに接続できる独立したオペレータ制御も含まれています。この制御インタフェースは、クローズドループ制御、連続ステージスキャン、およびアライメントを提供するだけでなく、露出を必要とする基板の部分の回転、傾き、焦点を可能にすることができます。ASML PAS 5500/80シリーズの設計は、300mmおよび200mmの基板を保持することができ、-40°Cから+90°Cまでの基板温度に対応できます。さらに、この機器はデュアルビューウェーハ位置エンコーダを備えており、fiducial検索とアライメントに関して非常に正確な結果を提供します。要約すると、ASMLのASML PAS 5500/80は、半導体製造用の基板に精密な画像を投影する機能を備えた最先端のウェハステッパーです。これは、高度な光学系とレーザーの様々なだけでなく、コンピュータディスプレイに接続することができ、独立したオペレータ制御で設計されています。PAS5500/80シリーズのリソグラフィーシステムは、最大1。5ナノメートルの解像度を提供し、最小のスポットサイズで30nmの表面を露出することができます。