中古 ASML PAS 5500 / 750F #293822111 を販売中

ASML PAS 5500/ 750Fは、半導体製造プロセスで使用されるステッパーとしても知られるウェハステッパーです。フォトマスクに指定されたパターンを半導体ウェーハの表面に転送するために使用される精密リソグラフィ装置です。ウエハサイズは2〜8インチ（50〜200mm）、サイズは0。35 μ mまで対応可能です。PAS 5500/ 750Fは、光学システムを介して高品質の画像を実現し、小さな構造を非常に細かい詳細と精度にパターン化することができます。ASML PAS 5500/ 750Fは、露光前にフォトマスクとウェハを正確に揃えるために使用されるミニアライナーチャンバーを備えています。チャンバーは微細なアライメントを可能にし、高い露出精度を保証します。ユニット内には、マスクとウエハコンポーネントの自動、迅速かつ正確なアライメントを可能にする高度な光学アライメントマシンがあります。PAS 5500/ 750Fの光学ツールは、シャープで高解像度の画像を提供し、ウェーハを希望の仕様にパターン化できます。不活性ガスは、イメージング中の損傷や汚染からウェーハを保護するために使用されます。ASML PAS 5500/ 750Fには高度な照明アセットがあり、競合システムを上回る均一性とスループットを備えた優れた光学均一性を提供します。また、高度なスキャンコントロールユニットを搭載しており、スキャン中のパターンを正確に制御できます。スキャン制御機能により、ウェーハ上のパターンが時間と空間で正確に複製されます。PAS 5500/ 750Fは、高精度のガルバノメーター装置を使用して、最高のスキャン精度を提供します。さらに、自動露出機能により、位置決め、露出、リセットパラメータを簡単にプログラムおよび制御できます。ASML PAS 5500/ 750Fは、ウェーハ上のパターンが正しく生成されるように、高度なプロセス制御機能を備えています。また、露出後のデータ分析機能も備えており、パターン忠実度とウェーハ形状を理解することができます。また、リソグラフィーオーバーレイ、レチクルフォーカス制御、複数のレチクル自動認識など、生産プロセスをさらに最適化するための幅広いオプションを提供しています。全体的に、PAS 5500/ 750Fは、優れたパターン精度とプロセス制御を提供する高度なウェーハステッパーです。大小の構造物の画質を最大化するとともに、最高レベルのプロセス制御とスループットを維持するように設計されています。自動化されたプロセス制御とデータ分析機能により、半導体製造プロセスに最適なソリューションとなります。