中古 ASML PAS 5500 / 750 #9194126 を販売中
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販売された
ID: 9194126
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
DUV Scanner, 8"
248 nm
SCR Rack:
Current amplifier CPU board TCS3x mater
TC3X Current amplifier
(6) Boards / +5 V PSU /+24 V PSU
AAR Rack:
Power supply boards
CPU
Optical & analog demodulators boards
CSU Rack
RRR Rack
WHR Rack
LPR Rack
WPR Rack: PSDC 48 V
MSR Rack:
Power supplies 5 V & 7 V/LS
AL Hinds controllers
RMR Rack:
Velocity drive digital
Sensor board
Z Sensor analog & digital boards
IL Rack:
Illumination interface board
PID 2,4,5 Boards
Power amplifier board
Level master board
PTI Board
ARMS Rack:
Library card 1
Remote reset
CPU
Wafer handling module:
Gripper unit
Pre-alignment unit
Discharge unit
Input pedestal
Dipod unit
Switch clamp valve
Reticle handling module:
(3) Libraries
Upper & lower robot
Illumination module:
Doe exchanger
ACL Board
BMU
Beam stearing
LSI Board
AIR Mount module:
(3) Servo valves Tc3x block
Geophones
Pre amp boards on AM
WS Module:
(2) Air bearings
Short-long stroke decoupling block
Air bearing controllers
HP Receivers
Flax cable fiber optics
Alignment module:
TTL Laser
OA Red & green laser
Power supply red & green laser
OA CCD CAM
Temperature conditioning module:
C&T Unit & controller
Exhaust fan
ACC Fan & controller
CYMER Laser 61433
Laser 1A8B
Tool model: ELS-6600
LNM
WCM
MCS Board
TCS Board
Exhaust vacuum sensor
Missing parts:
Computer system:
Sun station assembled ultra 10
CRT Monitor
Mouse trackball
2000 vintage.
ASML PAS 5500/750は、半導体メーカーがシリコンウェーハなどの表面に複雑なパターンを生成するために使用する高度なシミュレーションリソグラフィーツールです。この装置は完全な半導体ウェーハステッピングソリューションであり、競合ソリューションよりもはるかに優れたスループット、精度、精度を提供します。このシステムは、統合された二軸（XY）サブフィールドアライナーユニット、サブフィールドアベレーション補正機、およびビーム配信用の可変スポットスキャナを備えています。Subfield Alignerツールを使用すると、粒度やその他の不規則性に関係なく、ウェーハ上の希望のパターンを正確にアライメントできます。この資産は、+/-200nmの絶対ステッピングマイクロ・ナッジ精度でトップオフします。Subfield Alignerモデルを通過した後、ウェーハはSubfield Aberration Correction装置を通過し、ウェーハ処理および書き込み段階で導入された収差を自動的に修正します。このシステムはまた、ウェーハ材料によって引き起こされるリソグラフィ歪みの多くを補償することができます。最後に、ウェーハはVariable Spot Scannerを通過し、高度な電気焦点制御パラメータ最適化アルゴリズムを使用して、あらゆる種類のウェーハに比類のないビーム配信精度を提供します。このユニットはまた、最適な露光時間と強度性能を達成するのに役立つデュアルビームジェッティング技術を備えています。さらに、このマシンは、運転中に非常にエネルギー効率が高く静かなまま、1時間あたり5500露出を行うことができます。その上に、PAS 5500/750はモジュール式で設計されているため、最新のコンポーネントや機能を備えた生産ニーズに対応できます。さらに、このツールは最も一般的なソフトウェアプラットフォームと互換性があり、高度に構成可能であるため、ハイエンドの生産設定や低コストのラボに適しています。全体として、ASML PAS 5500/750は、あらゆる種類の材料表面で非常に精密なパターンを生成できるオールインワンウェハステッピングソリューションです。その強力なコンポーネントと機能により、優れたスループット、精度、精度、エネルギー効率を提供する、最先端のシミュレーションリソグラフィーツールの1つです。
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