中古 ASML PAS 5500 / 700B #293779167 を販売中
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ID: 293779167
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1999
DUV Stepper, 8"
CIM: SECS
SMIF Interface
Wafer transfer unit handler system
C&T Cabinet
Operator console unit
Integral slit uniformity:
Annular: ≤ 1.2
Conventional: ≤ 1.2
Illumination intensity:
Annular: 2400
Conventional: 2400
X and Y Moving standard deviation: ≤ 30 nm
X and Y Moving average: ≤ 15 nm
Dose repeatability and accuracy:
Dose repeatability: ≤ 0.7%
Dose accuracy: ≤ 2.0%
SAMOS: ≤ 5.5
Image plane deviation: ≤ 175
Astigmatism: ≤ 125
Best focus (Dynamic): 0±35 nm
Image sensor measurements:
Focus repeatability: ≤ 30 nm
(Rx) Scan axis tilt repeatability: ≤ 6.0 μrad
(Ry) Scan axis tilt repeatability: ≤ 2.0 μrad
Translation repeatability: ≤ 10 nm
Magnification repeatability: ≤ 1.0 ppm
Die rotation repeatability: ≤ 1.0 μrad
1999 vintage.
ASML PAS 5500/ 700Bは、フォトリソグラフィで使用される最先端のウェーハステッパーです。それは正確な、連続的な動きおよび長期安定性を特色にする命令の中心が付いているスキャン装置です。主な用途は半導体デバイスの製造であり、あらかじめ展開されたウェーハをステッパーに移し、リソグラフィ露光を用いて精密アライメントを実現しています。ステッパーは完全に自動化されたコンピュータ制御イメージングシステムです。ウェーハステージと呼ばれる高精度の金属フレームを内蔵しており、X軸とY軸の両方の動きを持っています。ステージはモーター駆動で、0。5〜4。0ミクロン間隔で移動することができます。また、0。1ミクロンサイズのステップで位置を測定することもできます。リニアエンコーダは、ステージの動きを再現可能に制御します。ウェーハステージは、最大45mmの厚さで直径10インチまでのウェーハに対応します。ステッパーは、7µm〜5mm以内の厚さ範囲のウェハに対応できます。ステッパーは、平坦度の異なるウェーハをサポートするだけでなく、形状誤差を検出し、露出画像を補正することができるキャリブレーションユニットを内蔵しています。PAS 5500/ 700Bは、高出力光源と高解像度レンズの範囲を備えています。ライン/スペースや接触露出、高アスペクト比と複雑な形状のマスキングなど、さまざまな露出を提供します。さらに、先進的な光学セットアップとミラー・マシンにより、フォトレジストの焦点と被写界深度を微調整できます。ステッパーには高性能画像解析ツールも装備されています。これは、0.25µmのレベルに画像の欠陥や不適合を検出することができます。これにより、欠陥のない完璧なウェーハを実現できます。ASML PAS 5500/ 700Bの堅牢で信頼性の高い再構成可能な設計により、1秒間に最大35回の露出で高速で高解像度のステッパー操作が可能です。さらに、ステッパーはフルフィールドからパーシャルフィールドのエクスポージャーまで幅広い粒度を備えており、生産アプリケーションの柔軟性を高めています。PAS 5500/ 700Bは、信頼性の高い高解像度性能を提供する強力で汎用性の高いウェーハステッパーです。高品質な半導体デバイスの製造に適したツールです。高度な光学、イメージング資産、自動化された操作により、高効率で正確なリソグラフィが可能です。
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