中古 ASML PAS 5500 / 550D #9191419 を販売中
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タップしてズーム
販売された
ID: 9191419
ヴィンテージ: 2000
DUV Scanner
Illumination board
Temperature cabinet: Controller
OCU: ULTRA-10 Including two hard disk
Electronics cabinet
Wafer transport system (wafer handling)
Air control cabinet
Laser & beam expander: CYMER ELS-6600 laser ( 2KHz ), 2000
ARMS:
(2) Grippers
IRIS: No
Reticle stage: Inside box
ACC Cabinet: Charcoal filter
Exposure unit check :
Visual check bottom lens
Top lens
No cystalization
Integrated slit uniformity:
(11) Scans in 26mm
Setting 1: 0.78
Illumination intensity:
(11) Scans in 26mm
Setting 1: 886
Dose repeatability and accuracy:
Dose repeatability: 0.3
Dose accuracy: 0.52
Image plane deviation: 178
Astigmatism: 76
Image distortion:
Non-correctable error: 11.5 / 8.8
Focus and leveling:
Focus repeatability (3 Sigma) : 0.01
Slit axis tilt repeatability (3 Sigma) : 0.37
Scan axis tilt repeatability: 0.39
Overlay performance:
Stage repeatability: 4.4 / 4.5
Single machine overlay using TTL alignment: 11.5 / 13.1
Athena alignment: X=11.5/Y=12.1
Wafer throughput:
8" Wafers: (46) Exposures
16 x 32 mm, 30 mJ/cm2
TTL [wafers/hour]: 117.8
Athena [wafers/hour]: 115.8
RBA [wafers/hour]: -
Intensity [mW/cm2]: 1240
Reticle exchange time:
Flash to flash reticle exchange time (s): 18.45
Image quality control:
3σ image sensor measurements focus repeatability [nm]: 23.37
Slit axis tilt repeatability [urad]: 5.79
Scan axis tilt repeatability [urad]: 1.17
Translation repeatability [nm]: 5.77
Magnification repeatability [ppm]: 0.29
Marker rotation repeatability [urad]: 0.26
Samos: 2.4
Straylight rema o/c (%): 1.11
2000 vintage.
ASML PAS 5500は、超小型半導体デバイスの製造に使用されるウェハステッパーです。この装置は、シリコンウェーハの表面を連続的に照らすスキャンレーザーシステムを使用しています。レーザーにさらされた各領域は、一連の露出領域に分割され、その後、マスクレスダイレクトメソッドでウェーハに印刷されます。PAS 5500は、一次表面回折格子、光学イメージングマシン、デュアル波長レーザー源など、最新のイメージングユニットを備えています。このツールはレーザー波長範囲が530-570 nmで、スポットサイズは1 μ mです。ウェハステージは、最大基板サイズ200mmをサポートし、6インチのウェハツーレンズ分離をサポートします。ステッパーはまた、+/-1 umの再現性で高精度のステップとリピート位置決めを提供します。高解像度により、0。1〜1。0マイクロメートルの線幅を最小限に抑え、0。5マイクロメートル未満のピッチ精度で超微細な機能と構造を作成できます。また、30nmのアライメント精度で高度なアライメント機能を備えています。PAS 5500は、500nmで最大出力10kW、最大アセット強度1。3 J/cm2の高出力光源を備えています。最大スループットは毎時600ウェーハ、最大露出面積は4×5マイクロメートルです。その高度なバッチ露出機能により、大面積と多段の露出で途切れることなくパターニングジョブを実行できます。この機器には自動アライメントロジックがあり、リアルタイムで自動パターン検索とアライメント補正を実行します。また、ウェーハトポグラフィに基づいて最適なフォーカスを打つAutoFocus機能も提供しています。PAS 5500は、フォトリソグラフィやナノインプリントに適した汎用性の高いウェハステッパーです。超小型半導体デバイスの製造において、高い歩留まりと高分解能イメージングを提供します。このシステムは、生産ニーズに迅速で信頼性が高く、電力効率に優れたステッピングソリューションを必要とするメーカーにとって理想的な選択肢です。
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