中古 ASML PAS 5500 / 400D #9207081 を販売中
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タップしてズーム
販売された
ID: 9207081
ヴィンテージ: 2004
Step and scan system, 8"
Imaging performance:
Resist: Ultrai 123
Through focus:
Dense lines: 25 nm
Specification: ≤35 nm
Isolated lines: 20 nm
Specification: ≤50 nm
Best focus:
Dense lines: 15 nm
Specification: ≤25 nm
Isolated lines: 13nm
Specification: ≤25 nm
Main body
OCU
IL Bottom module
C&T Cabinet
Arms
WTS
Cover set
Electronic cabinet
Wafer stage
Airco unit
R-Chuck box 1
Accessory box 1
Accessory box 2
Accessory box 3
Accessory box 4
SECS / GEM: Yes
2004 vintage.
ASML PAS 5500/ 400Dは、半導体基板の表面にパターンを転送するために使用されるウェハステッパーです。高度な半導体技術の開発を支える複雑なパターンを生み出す高精度な機械です。ステッパーは、紫外線(UV)光源、最先端の光学系、および正確なアライメントを使用することにより、非常に小さな構造の配列でウェーハに適用されるフォトレジスト層を迅速に露出することができます。ASML PAS 5500/400Dの光学系には、バリフォーカルレンズ、プラッターミラー、および2つの折りたたみミラーがあり、それらはすべて基板の照明とイメージングに利用されています。レンズは、プリントビームのイメージング角度を調整する2つのミラーと、イメージングレンズの位置を制御するために使用されるガルバノメーター装置で構成されています。プラッターミラーは、目的の画像解像度を得るために、X軸とY軸に沿って基板をスキャンするために使用されます。最後に、2つの折りたたみミラーは、イメージングビームのフォトレジスト層へのアライメントとフォーカシングを助けます。ステッパーにはダイナミックラインジェネレータ(DLG)も装備されており、イメージングビームをナノメートルの精度でウェーハに正確に整列させるために使用されます。DLGの2次元マトリックスを使用して、ウェーハの動きに応じてビーム位置を連続的に調整します。これにより、露出ごとに画像処理が正確かつ再現可能になります。光学に加えて、PAS 5500/400 Dには、高度な制御と安全機能が多数装備されています。これには、高度な予測制御システムが含まれており、光学イメージング角度を連続的に調整して、画像が各露出と一致していることを確認します。さらに、ステッパーは、プラッタへの基板付着を維持するための強力な真空ユニットを備えており、プロセスが非常にクリーンな環境で発生することを可能にします。PAS 5500/ 400Dは、露出ごとに正確なパターンを生成できる最先端のウェーハステッパーです。その優れた光学、高度なDLG、および予測制御マシンは、それぞれの露出でイメージングプロセスが正確かつ反復可能であることを保証します。さらに、その強力な真空ツールは、プロセスが非常にクリーンな環境で発生することを可能にします。これにより、ASML PAS 5500/400 Dは、製造プロセスにおいて最高の精度と精度を必要とする半導体業界の人々にとって貴重なツールとなります。
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