中古 ASML PAS 5500 / 400D #293817859 を販売中

ASML PAS 5500/ 400Dは、半導体業界に精密リソグラフィとイメージング機能を提供する高性能ウェーハステッパーです。解像度は0。25ミクロンで、最大400mmのウェーハを別々のステージで処理できます。ASML PAS 5500/400Dは、プロセス全体にわたってコンピュータ駆動の高速イメージングを提供し、生産プロセスを可能な限り迅速に完了させる優れたスループットを提供します。PAS 5500/400 Dには、ウェーハアライメントシステム、レーザー干渉計ユニット、高度なロボティクスマシンなど、さまざまな機能を備えた統合イメージング装置が装備されています。統合されたイメージングツールは、自動的にマシンのウェーハモーションパラメータを調整し、オペレータの介入なしに最適なリソグラフィーイメージング結果を実現します。さらに、イメージング資産は、任意のアライメントとポジショニングエラーを検出することができ、任意の不一致のために迅速に調整することができます。また、加熱素子、偏向触媒、フィルターアセンブリ、シャッターアセンブリ、スリットランプアセンブリ、露出ヘッドアセンブリなど、幅広いカスタマイズ可能な機能を備えています。露出ヘッドアセンブリにより、コンタープロジェクション（CP）、ハイコントラスト・リフレッシュ（HCR）、フォーカス深さ（DOF）など、さまざまな高度なリソグラフィ操作を実行できます。レーザー干渉計や投影光学などの機械の内部光学系も、強化されたイメージング機能を提供するように設計されています。レーザー干渉計は、傾きやフォーカスエラーを補正し、ウェーハ表面を正確にスキャンします。また、プロジェクションオプティクスは、幅広い基板や材料を処理するように設計されており、さまざまな光源や処理技術を使用することができます。このマシンには、柔軟で正確なマスクアライメントツール、正確なパッチ解析、基板上の定義されていない領域の迅速な修正、高度なフォーカス、露出、停止手順など、機能を強化するために設計されたさまざまなコンピュータソフトウェアプログラムも含まれています。支持的なソフトウェアはまたオペレータが一貫した、効率的な操作を保障するために各ウェーハの操業の間に使用されたイメージングパラメータのすべてを容易に貯え、アクセスすることを可能にします。全体として、ASML PAS 5400/400Dは、優れたイメージング機能と生産プロセスの効率、精度、およびスループットを向上させるために設計された幅広い機能を提供する強力なウェーハステッパーです。これは、精密なリソグラフィ操作を必要とする半導体業界やその他の業界にとって理想的な選択肢です。