中古 ASML PAS 5500 / 300C #9309192 を販売中

ASML 5500/300Cウェーハステッパーは、半導体製造用フォトマスクの製造用に設計された、コンパクトでコスト効率の高い露光装置です。ステッパーは直感的でユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスを備えており、ユーザーはウェーハの完璧なアライメントと露出のために設定を簡単に調整できます。ASML 5500/300Cは、デュアルドロップのレーザーアシストステッピングアーキテクチャを使用しており、各レイヤーに2つの重複露光パターンを作成します。これにより、ウェーハの露出位置を正確に把握し、より小型で均一なフィーチャーサイズを実現します。また、特許取得済みの「レーザーアシスト脱着装置（LAD）」を搭載しており、レーザービームの焦点をウェハ表面に合わせて正確に調整し、最適なアライメントと露出を実現します。ASML 5500/300Cステッパーには、広い視野（118 x 97ミリメートル）と特別な大面積ビームスプリッタが装備されており、高解像度の画像や機能をレンダリングするために、ウェーハの広い領域を迅速にスキャンすることができます。これにより、サイクル時間を大幅に短縮し、全体的な露出品質を向上させることができます。露出機能に加えて、ASML 5500/300Cウェーハステッパーにはフル機能のプロセス制御アセットも組み込まれています。このモデルを使用すると、露出プロセス中にウェーハの位置を自動的に監視し、再現可能なアライメントと露出パラメータを確保できます。また、DDS （Disfect Detection Unit）を内蔵しており、露光処理中にパターンの欠陥を検出して修正することができます。最後に、ASML 5500/300Cウェーハステッパーは、テレセントリックレンズ、スケールレンズ、シフトレンズなどの幅広いレンズオプションと互換性があり、最大0。3ミクロンの精度を確保するのに役立ちます。これは、可能な限り最高の解像度でフォトマスクを作成するのに役立ちます、ユーザーは、そのパターンで最高の詳細を達成することができます、そして、それらは可能な限り最高の半導体部品を生成することができます。要約すると、ASML 5500/300Cウェーハステッパーは、高度で直感的な露出ツールであり、ユーザーに高い露出精度と制御を提供します。アセットの幅広い機能により、ユーザーは最小限の労力で高解像度パターンを迅速にレンダリングできます。また、高度なプロセス制御および欠陥検出システムにより、モデルは最大の歩留まりと品質を保証します。