中古 ASML PAS 5500 / 300C #9197509 を販売中

ASML PAS 5500/300Cは、半導体デバイス製造に使用される完全自動ウェーハステッパーです。このツールは、フォトレジストコーティングされたウエハを正確に露出させるためにスキャンすることができる深紫外線（DUV）光源を使用して、超精密なパターンを持つ複雑な集積回路チップを製造するように設計されています。ASML PAS 5500/300Cは、高度なチップ設計のための高いスループット処理速度と優れた均一性を提供します。同じ作業を完了するために手動のステッパー装置を必要とするほんのわずかの時間で数百のウェーハを処理することができます。その主な利点は、プロセス全体にわたって非常にタイトな焦点と正確な露出を提供する高性能リソグラフィーシステムです。これは、広い視野を持つ光学スキャナ、統合されたセンサー、正確なウェーハ配置のための電動ステージなど、その高度なソフトウェアとハードウェアによって達成されます。スキャナの広い視野により、PAS 5500/300Cは小規模および大規模ジョブの両方を同時に処理でき、プロセス時間を大幅に短縮できます。さらに、PAS 5500/300Cには、視野全体にわたってパターンのバリエーションをレベルアウトするフィールド平坦化レンズがあります。ASML PAS 5500/300Cは、全体的な効率を高めるいくつかの機能を備えています。例えば「、プリアライメント」プロシージャはウェーハの向きを素早く整列させ「、オートセンタリング」プロシージャは急速に再調整し、フォトレジストパターンを光学的に整列させます。「マルチステップ戦略」により、複数のウェーハを同じ位置に露出させ、プロセスをさらに高速化することができます。一方、ソフトウェア開発キット（SDK）は、ユーザーに独自のプロセスレシピを開発する力を提供します。ASML PAS 5500/300Cには、Time Multiplexer （TMX）ミラーやコリメーションレンズ、レーザーベースのウェーハ薄型化ユニットなど、柔軟性とパフォーマンスを向上させるための他のいくつかの機能も含まれています。さらに、オプションのオートフォーカスマシンを追加することで、さらに高い精度を得ることができます。その他のプロセスオプションには、エリアバックグラウンドクリア、解像度チューニング、ノイズ補正、偏光補正などがあります。要約すると、PAS 5500/300Cは、多くの性能、精度、効率機能を提供する高度で高性能なリソグラフィーツールです。その広範な視野、統合されたセンサーと電動ステージ、ソフトウェアシステム、およびオプションのアクセサリは、大量生産と精密な小型チップ設計プロセスの両方に理想的なツールです。