中古 ASML PAS 5500 / 300B #100797 を販売中
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販売された
ID: 100797
Stepper, 8"
Config Item Value
Cassette (elevator) position Cassette position 1 and 2
Wafer Track Interface TEL Mark 5/7/8/ACT8
SECS I and II Interface Yes
SECS Job Creator Yes
Batch streaming Advanced RMS
E-Chuck Analysis Standard
Image quality control Standard
Tape streamer OCU-MK4 or less Yes
Single Reticle Smif Handling Yes
SignALL Yes
IRIS-6 Inch Reticles Yes
PEP1 Standard
PEP2 Standard
Reticle Error Compensation Standard
Focal Standard
Extended NA-range Yes
Aerial Standard
Intensity 2 Yes
Quasar Yes (DOE ID13 MP4 30 included)
Extended Exposure Yes
Focus Spot Monitor Yes
PEP300B = /300B to /300C upgr Yes
IOST Yes
Valid ATP-document 12NC 4022.502.42301
Hertz 60 Hertz
Power 220 Volt
Signal Tower Remote
Software release 5500 SW rel. 6.2.2
SPM Alignment Yes
Optical Prealign (Mark Sensor) Standard
Wafer size 200 mm
Wafer type Flat
Language indication KOR
CSR's for PAS5500 general Focus monitoring
Focus Spot Monitor Yes
Extended Exposure Yes
Factory release Sw rel. 6.2.0
AB matching Yes
Reticle size 6"
Super clean package Yes
XPA alignment Standard
Optical Prealign (Mark Sensor) Standard
LSQ disto modelling Standard
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1089 ( T97-DUV-02-100 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1191 ( T97-DUV-02-93 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1192 ( T97-DUV-02-94 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1194 ( T97-DUV-02-96 )
1997 vintage.
ASML PAS 5500/ 300Bウェハステッパーは、半導体製造に使用される重要なデバイスです。リソグラフィープロセスの一環として、ウェーハステッパーを使用してウェーハにパターンを投影し、ターゲット領域を何らかの方法でエッチング、加工、または操作することができます。PAS 5500/ 300Bは光学的に整列されており、照明、投影光学、アライメント光学、サポートとモーションシステム、照明機器、真空システムが含まれています。照明器は投影された光の源で、多数のランプ、ランプのレセプタクル、シャッタードライブ、シャッターレンズが含まれています。照明器はまた部品の機械バックラッシュか熱衝撃からの保護を提供します。露出の状態に応じて、希望の露出が選択されます。プロジェクションオプティクスは、ウェーハ上に投影される画像を作成するためのデバイスであり、対物レンズ、コンデンサレンズ、イメージングレンズ、および光学フィルターが含まれています。対物レンズはウェーハに光を集中させ、コンデンサーレンズは光をイメージングレンズに集中させます。画像レンズは投影された画像を形作り、光フィルターを使用して特定の露光に使用される光の波長を選択します。アライメント光学系は、プロセス中のウェーハの取り扱いと動きを処理します。アライメント光学系は露光プロセスの開始と停止を制御し、ウェーハとイメージングレンズのアライメントを維持します。サポートとモーションユニットは、ウェーハとプロジェクションオプティクスのアライメントを提供します。ウエハに露出パターンを正確かつ正確に配置するプロセスであるオリジナルのオーバーレイ精度は、サポートとモーションマシンで維持されます。このツールには、視野測定モジュール、モーションステージ、フォーカスコントローラ、レーザー干渉計、コンピュータインターフェースなどの多くの部品が含まれています。照明資産は、モデルのすべての電気部品を担当する電源であり、デジタル照明制御モジュール、リモートパワーコントロールモジュール、パワーアンプ、デジタルアンプコントローラ、およびアンプが含まれています。真空装置は、ウェーハを保持する基板チャンバーと他のコンポーネントを担当しています。それはプロセスの間に圧力を維持し、露出されている間ウェーハをきれいに保つために責任があります。また、汚染物質がチャンバーに侵入するのを防ぎ、露出プロセス中に酸化が発生するのを防ぎます。全体として、ASML PAS 5500/ 300Bは半導体製造にとって非常に重要なデバイスです。照明器、プロジェクションオプティクス、アライメントオプティクス、サポートとモーションシステム、照明ユニット、真空マシンの組み合わせにより、半導体チップの操作と形状に使用される画像を正確かつ正確に作成できます。
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