中古 ASML PAS 5500 / 275D #9188744 を販売中

ASML PAS 5500/ 275Dウェハステッパーは、デュアルビーム、コンピュータ制御のプロジェクションフォトリソグラフィ装置です。半導体デバイス（ICやMEMSなど）の製造に使用されます。ステッパーには、248 nmの波長KrFエキシマレーザービームと193 nmの波長ArFエキシマライトという2つの光源があり、基板上のターゲット領域に焦点を合わせるように調整されています。光源は0。18 μ mの最小の特徴サイズの高分解能のリソグラフィ操作を可能にします。PAS 5500は、ウェーハをビームパス内に配置し、ウェーハを回転させてそれぞれのダイをビームと整列させるウェーハステージシステムを備えています。このウェーハステージユニットは、ナノメートルと秒の順序で速度と精度が可能です。さらに、このマシンは16ºCの温度で動作するように設計されています。このツールは、2次元アライメントアセットを使用してサブミクロンの精度を達成することができます。このモデルは、露出前にウェーハを正確に登録するために、3軸ステージと4つのCCDカメラを使用しています。ASML PAS 5500は、5軸ダブルMST（メカニカルステージトランスレータ）スキャンヘッドを使用して、より効率的な方法でウェーハをパターン化します。PAS 5500は、ウェーハ上の微細構造の高解像度イメージングを可能にする高度なイメージング装置を備えています。これには、マイクロオプティクスと多層光学イメージングシステムが含まれ、NA （Numerical Aperture）は最大0。5です。このユニットには、完全なウェーハ処理と検査のための専用スキャンソフトウェアスイートも備えています。これには、自動ウェーハ位置決め用のスキャンツール、自動パターンアライメント用のステッピングツール、自動露出用の露出ツールが含まれます。ソフトウェアスイートは、プロセスのユーザーフレンドリーな制御を可能にし、時間と人間の介入を減らします。全体として、PAS 5500/ 275Dは、半導体産業における精密リソグラフィ用途向けに設計された産業用グレードのデュアルビーム投影型ステッパーです。その特長は、高度なウェーハ処理のために組み合わされ、高速スループットと高い歩留まりを持つ集積回路の生産を可能にします。