中古 ASML PAS 5500 / 125E #9188743 を販売中

ASML PAS 5500/ 125Eは、リソグラフィーツールおよびサービスのリーダーであるASMLによって開発された「第6世代」のハイエンド商用ステップおよびスキャン装置です。このシステムは、優れたイメージング性能、リソグラフィ制御、精度アライメントを約束する先進の第6世代ステッピングテクノロジーと、前世代のPAS （PAS 5500/ 125E）スキャンモジュールの両方を統合しており、高いスループットと精度を実現しています。ASML PAS 5500/ 125Eは、直径85ミリメートル（mm）までの光の弧と248ナノメートル（nm）の波長を生成することができるクリプトンフッ化物（KrF）エキシマレーザーを備えています。このレーザーは、微細にコリメートされた光ビームを生成し、広い領域を照らすことができるため、マイクロチップの製造など、精度と精度を必要とするアプリケーションに最適です。このユニットは、フォトレジストの露光量を制御するために不可欠な先進的なDose Mapping （DMA）やAdvanced Resist Control （RCA）を含む最先端の第6世代技術を備えており、フォトマスクの解像度とコントラストを管理しています。さらに、新しい第6世代マシンは、ソフトウェア制御レーザーアライメントシステムとディスプレイモニターを組み合わせて、インダイアライメントを改善しました。これらの高度な機能により、生産性と精度が向上します。さらに、PAS 5500/ 125Eは、ASMLの先進的なスパイラルスキャン技術を利用して、印刷されたマスクから半導体ウェーハに画像を転送します。このプロセスでは、ウェーハ上に「空間周波数」のスパイラルを照らし、デバイスが連続的に再調整できる地形図を作成します。これにより、スキャン全体でイメージングが歪みのないようになり、完全な半導体ウェーハ全体で均一な解像度を実現します。ASML PAS 5500/ 125Eはオートフォーカスツールも備えており、ウェーハの位置を常に追跡し、均一で鮮明なイメージングを維持します。さらに、このアセットには環境同期メカニズムが含まれており、モデルのチャンバー内で一貫した温度と湿度が保証されます。これは、機器の全体的な寿命を延ばし、一貫した出力を維持するのに役立ちます。要するに、PAS 5500/ 125Eは、最先端の第6世代ステッピングテクノロジーとASML PAS 5500/ 125Eスキャンモジュールを搭載したハイエンドの商用ステッピングシステムです。ドーズマッピング、レジストコントロール、インダイアライメント、スパイラルスキャン、オートフォーカス、環境同期機構などの高度な機能により、高い画像精度と精度を提供します。