中古 ASML PAS 5500 / 100D #9228177 を販売中
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ID: 9228177
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
Stepper, 8"
Illumination:
Uniformity:
22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5
14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5
Intensity: 900 mw/cm2
Dose repeatability & accuracy [%]: ≤1.0
Dose matching [%]: ≤2.0
Imaging:
UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0
Overlay:
Global overlay: 99.7% (All errors)
Day 1 [nm]: X<60, Y<60
Day 2 [nm]: X<60, Y<60
Day 3 [nm]: X<60, Y<60
Stage accuracy [um]: X<15, Y<15
Material handling:
Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180
Distortion:
Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60
Magnification [ppm]: ≤ 2.0
Die rotation [urad]: ≤ 2.0
Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10
Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10
1996 vintage.
ASML PAS 5500/ 100Dは、今日の市場で最も先進的で信頼性の高いフォトリソグラフィーアプリケーション用ウェハステッパーの1つです。このステッパーは、幅広い機能サイズで世界クラスのプロセスパフォーマンスを提供することができます。ASML PAS 5500/100Dは、最大限の柔軟性とアップグレード性を可能にするモジュラー設計を備えています。高精度なアライメントと露出のために設計された高度な光学機器で構築されています。このシステムは、露光光の振幅と位相変調の両方のために設計されており、優れた空間分解能と最高のダイナミックレンジを提供します。また、PAS 5500/100 Dは完全に自動化されたアライナーとオーバーレイプラットフォームを備えており、プロセスにおける迅速なリアルタイムオーバーレイ測定と検証を提供します。このプラットフォームにより、ユーザーはウェーハ全体の完全なマスク処理を監視および制御できます。改良されたリニアモータとドライブにより、滑らかで正確で反復可能な動きが可能です。ステッパーには、正確な制御と安全なプロセスを提供する高度な制御、監視、診断機能も含まれています。ステッパーには、4軸リニアモータとエンコーダのデュアルセットを組み込んだ高精度の登録とアライメントユニットも付属しています。この機械は露出プロセスの間に非常に正確で、安定した登録および整列のために設計されています。また、ウェーハの洗浄・検査、ウェーハ基板とフレームアライメント、ウェーハ基板とフレームの検証、ウェーハ基板認識、ウェーハ残留エッジ認識などの高度なウェーハ処理技術も搭載しています。PAS 5500/100Dには、人員の安全とウェーハの取り扱いを確保するように設計された高度な安全システムも装備されています。ステッパーには、必要に応じて処理手順を停止できる防火ツールとエアロゾルリリースアセットが含まれています。ステッパーはまた、モデルの敏感な光学部品を損傷したり、ウェーハプロセスに影響を与える可能性のある環境条件から保護するように設計されています。ステッパーはまた、結晶構造やアモルファス構造の最大性能を保証します。PAS 5500/ 100Dは、正確で信頼性の高い操作を必要とするあらゆるフォトリソグラフィ用途に最適です。
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